[發(fā)明專利]含轟擊桿結(jié)構(gòu)的電阻蒸發(fā)鍍膜機

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110160223.0
• 申請日: 2011-06-14
• 公開（公告）號: CN102199750A
• 公開（公告）日: 2011-09-28
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 胡永強;張婷
• 申請（專利權(quán)）人: 胡永強
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26
• 代理公司: 杭州華鼎知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 33217
• 代理人: 施少鋒

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種電阻蒸發(fā)鍍膜機。

背景技術(shù)

在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時間(或決定于裝料量)，并與源和基片的距離有關(guān)。對于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。蒸發(fā)源有三種類型。①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀，通以電流，加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì)，電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高頻感應(yīng)加熱源：用高頻感應(yīng)電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì)。③電子束加熱源：適用于蒸發(fā)溫度較高的材料，即用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質(zhì)和不易熱分解的化合物膜，為沉積高純單晶膜層。

目前電阻蒸發(fā)鍍膜機制成的產(chǎn)品，無法較好地解決如下問題：無法清除工件表面存在雜質(zhì)，影響產(chǎn)品的亮度；鍍層不夠牢固，容易脫離工件表面，產(chǎn)品質(zhì)量較低。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供含轟擊桿結(jié)構(gòu)的電阻蒸發(fā)鍍膜機，可以有效地解決現(xiàn)有鍍膜機制成的產(chǎn)品表面存在雜質(zhì)以及鍍層容易脫離的問題。

為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案：

含轟擊桿結(jié)構(gòu)的電阻蒸發(fā)鍍膜機，包括鍍膜機的機體，機體內(nèi)設(shè)有工件架底座，工件架底座上設(shè)有蒸發(fā)電極桿支架，蒸發(fā)電極桿支架之間連接有蒸發(fā)電極桿，其特征在于：機體內(nèi)設(shè)有至少一根離子轟擊桿。

優(yōu)選的，離子轟擊桿與蒸發(fā)電極桿之間平行。

進(jìn)一步，機體連接有管道，管道與機體相接的開口處設(shè)有過濾件，過濾件在朝向機體的一側(cè)設(shè)有格柵，格柵通過固定連接在管道上而將過濾件固定在開口處。

進(jìn)一步，管道內(nèi)設(shè)有一體的螺栓，螺栓穿過格柵與螺母連接，將格柵固定連接在管道中。

進(jìn)一步，螺母與格柵之間設(shè)有墊圈。

進(jìn)一步，蒸發(fā)電極桿支架上固定連接有下?lián)醢澹聯(lián)醢彘_口朝向機體的頂部。

本發(fā)明由于采用了上述技術(shù)方案，具有以下有益效果：離子轟擊桿可以有效去除工件表面的雜質(zhì)，起到清潔作用，保證產(chǎn)品的亮度；且轟擊后可以增加鍍層的附著力，使鍍層更加牢固；同時過濾器后可以有效過濾油氣，避免對工件造成污染，從而使產(chǎn)品更加完美，透亮，且過濾器方便拆裝、清洗及更換。本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單，制造簡便，成本低，實用性強。

附圖說明

下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步說明：

圖1為電阻蒸發(fā)鍍膜機(未畫出下?lián)醢?的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為圖1中K向結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為過濾結(jié)構(gòu)的的示意圖；

圖4為過濾結(jié)構(gòu)各部件的分解示意圖。

具體實施方式

如圖1至圖4所示，為本發(fā)明含轟擊桿結(jié)構(gòu)的電阻蒸發(fā)鍍膜機，包括鍍膜機的機體10，機體10內(nèi)設(shè)有工件架底座1，工件架底座1上設(shè)有蒸發(fā)電極桿支架2，蒸發(fā)電極桿支架2之間連接有蒸發(fā)電極桿3，機體10內(nèi)設(shè)有至少一根離子轟擊桿5，離子轟擊桿5與蒸發(fā)電極桿3之間平行。機體10連接有管道11，管道11與機體10相接的開口處15設(shè)有過濾件12，過濾件12在朝向機體10的一側(cè)設(shè)有格柵13，格柵13通過固定連接在管道11上而將過濾件12固定在開口處15。管道11內(nèi)設(shè)有一體的螺栓，螺栓穿過格柵13與螺母14連接，將格柵13固定連接在管道11中，螺母14與格柵13之間設(shè)有墊圈16。蒸發(fā)電極桿3支架2上固定連接有下?lián)醢?，下?lián)醢?開口朝向機體10的頂部。

以上僅為本發(fā)明的具體實施例，但本發(fā)明的技術(shù)特征并不局限于此，任何以本發(fā)明為基礎(chǔ)，為實現(xiàn)基本相同的技術(shù)效果，所作出地簡單變化、等同替換或者修飾等，皆涵蓋于本發(fā)明的保護(hù)范圍之中。