[發(fā)明專利]含過濾結(jié)構(gòu)的電阻蒸發(fā)鍍膜機無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110159428.7 | 申請日: | 2011-06-14 |
| 公開(公告)號: | CN102230157A | 公開(公告)日: | 2011-11-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 胡永強;張婷 | 申請(專利權(quán))人: | 胡永強 |
| 主分類號: | C23C14/26 | 分類號: | C23C14/26 |
| 代理公司: | 杭州華鼎知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 33217 | 代理人: | 施少鋒 |
| 地址: | 322118 浙江省金華市*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 過濾 結(jié)構(gòu) 電阻 蒸發(fā) 鍍膜 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種電阻蒸發(fā)鍍膜機。
背景技術(shù)
在真空中制備膜層,包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面,稱為蒸發(fā)鍍膜。蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源,待鍍工件,如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后,加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時間(或決定于裝料量),并與源和基片的距離有關(guān)。對于大面積鍍膜,常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程,以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動能約為0.1~0.2電子伏。蒸發(fā)源有三種類型。①電阻加熱源:用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì),電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高頻感應(yīng)加熱源:用高頻感應(yīng)電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì)。③電子束加熱源:適用于蒸發(fā)溫度較高的材料,即用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比,具有較高的沉積速率,可鍍制單質(zhì)和不易熱分解的化合物膜,為沉積高純單晶膜層。
鍍膜機是一套聯(lián)體的管路系統(tǒng),在抽真空過程中,真空室與前面的機械泵,羅茨泵,還有擴散泵都相通,雖然氣體都是從真空室往機械泵方向排出,從而達到高真空效果,但是在抽真空過程中會相繼開相關(guān)的上下伐門及主伐,在開伐門的過程中并會使前面各個機械及擴散泵中的油氣往真空室內(nèi)返回,這樣就會污染到真空室及里面的有效工件,使產(chǎn)品鍍黑或者鍍花掉。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供含過濾結(jié)構(gòu)的電阻蒸發(fā)鍍膜機,可以有效地解決現(xiàn)有鍍膜機抽真空過程中會相繼開相關(guān)的上下伐門及主伐,在開伐門的過程中并會使前面各個機械及擴散泵中的油氣往真空室內(nèi)返回,這樣就會污染到真空室及里面的有效工件,使產(chǎn)品鍍黑或者鍍花的問題。
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
含過濾結(jié)構(gòu)的電阻蒸發(fā)鍍膜機,包括鍍膜機的機體、以及與機體連接的管道,其特征在于:管道與機體相接的開口處設(shè)有過濾件,過濾件在朝向機體的一側(cè)設(shè)有格柵,格柵通過固定連接在管道上而將過濾件固定在開口處。
進一步,管道內(nèi)設(shè)有一體的螺栓,螺栓穿過格柵與螺母連接,將格柵固定連接在管道中。
進一步,螺母與格柵之間設(shè)有墊圈。
進一步,鍍膜機包括工件架底座,工件架底座上設(shè)有蒸發(fā)電極桿支架,蒸發(fā)電極桿支架之間連接有蒸發(fā)電極桿,蒸發(fā)電極桿上設(shè)有蒸發(fā)夾具,蒸發(fā)夾具之間設(shè)有鎢舟,鎢舟上繞有鉬絲。
進一步,蒸發(fā)電極桿支架上轉(zhuǎn)動連接有上擋板。
優(yōu)選的,蒸發(fā)電極桿支架上連接有擋板主桿,擋板主桿在蒸發(fā)電極桿支架上進行自轉(zhuǎn),擋板主桿上固定連接有擋板支肋骨,擋板支肋骨固定連接上擋板,上擋板通過擋板支肋骨和擋板主桿轉(zhuǎn)動連接在蒸發(fā)電極桿支架上。
優(yōu)選的,擋板主桿上分別設(shè)有上支撐桿和下支撐桿,蒸發(fā)電極桿支架端部分別設(shè)有與上支撐桿和下支撐桿對應(yīng)的上限位桿和下限位桿,當(dāng)擋板主桿轉(zhuǎn)動至上支撐桿抵住上限位桿時,上擋板蓋于蒸發(fā)電極桿支架上方;當(dāng)擋板主桿轉(zhuǎn)動至下支撐桿抵住下限位桿時,上擋板脫離對蒸發(fā)電極桿支架的遮蓋。
優(yōu)選的,蒸發(fā)電極桿支架上固定連接有下?lián)醢澹聯(lián)醢彘_口朝向上擋板。
本發(fā)明由于采用了上述技術(shù)方案,具有以下有益效果:裝上過濾器后可以有效過濾油氣,避免對工件造成污染,從而使產(chǎn)品更加完美,透亮,且過濾器方便拆裝、清洗及更換。本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單、制造簡便、成本低,實用性強。
附圖說明
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步說明:
圖1為本發(fā)明含過濾結(jié)構(gòu)的電阻蒸發(fā)鍍膜機的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為過濾結(jié)構(gòu)的示意圖;
圖3為過濾結(jié)構(gòu)各部件的分解示意圖;
圖4為圖1中的K向結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5為本發(fā)明鎢舟結(jié)構(gòu)的示意圖。
具體實施方式
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 卡片結(jié)構(gòu)、插座結(jié)構(gòu)及其組合結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)平臺結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
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