[發(fā)明專利]曝光補償裝置及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110156167.3 | 申請日: | 2011-06-10 |
| 公開(公告)號: | CN102223485A | 公開(公告)日: | 2011-10-19 |
| 發(fā)明(設計)人: | 陳冠波 | 申請(專利權)人: | 深圳市先河系統技術有限公司 |
| 主分類號: | H04N5/235 | 分類號: | H04N5/235 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 何青瓦 |
| 地址: | 518040 廣東省深圳*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 曝光 補償 裝置 方法 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及攝像技術領域,尤其涉及一種曝光補償裝置及方法。
背景技術
攝像機在成像時,曝光光線的強弱控制非常重要,曝光參數一般通過曝光時間和光圈大小來控制。曝光時間與曝光光線成反比關系,曝光光線越強,那么曝光時間就越短,反之,曝光光線越弱,曝光時間就需要越長。而光圈的大小與曝光光線的強弱成反比關系,曝光光線越強,則控制光圈越小,反之,曝光光線越弱,則控制光圈越大。
為實現攝像機在較暗的環(huán)境下正常工作,尤其是夜晚也能正常工作,僅僅通過控制曝光時間和光圈大小顯然不能解決問題,于是引入了紅外光曝光補償技術。紅外光曝光補償技術重要的一點是使得曝光光線=自然光+紅外光,以增加自然光在夜晚或者較暗的環(huán)境中的強度,克服傳統攝像機不能在夜晚或較暗的環(huán)境中正常成像的缺陷,這種帶紅外燈的攝像機就是紅外攝像機。
2007年11月7日公開的申請?zhí)枮椋骸?00710097458.3”的發(fā)明專利申請文件中,公開了一種數字圖像的曝光補償方法,該方法是通過初始曝光值的數字圖像中的像素亮度值計算出初始邊緣能量值,并通過改變曝光補償值而得到一最大邊緣能量值,對應于所述最大邊緣能量值的曝光補償值即為最佳曝光補償值,如果所述最大邊緣能量值與所述初始邊緣能量值的差值大于一閾值,則將所述初始曝光值補償所述最佳曝光曝光補償值后的數值作為目前的曝光值補償;反之,則直接以所述初始曝光值作為目前的曝光值補償。
上述專利雖然對傳統的曝光補償方法進行了改進,但是其判定依據初始曝光值的數字圖像中像素的亮度值來來尋求一個最佳曝光補償值,而這個最佳曝光補償值的并不隨外界光線環(huán)境的實時變化而快速做出反應,因此,僅僅根據初始曝光值的數字圖像像素的亮度值得到的最佳曝光補償值并不準確。
發(fā)明內容
本發(fā)明主要解決的技術問題是提供一種曝光補償裝置及方法,能夠根據外界光線環(huán)境的實時變化準確地得到一個最佳曝光補償值,從而可以在多種光線條件下使得攝像機均可獲得目標物的清晰穩(wěn)定圖像。
為解決上述技術問題,本發(fā)明采用的一個技術方案是:提供一種曝光補償方法,包括以下步驟:
獲取第一曝光時間,所述第一曝光時間為紅外發(fā)射設備開啟狀態(tài)下的當前曝光時間;
判斷所述第一曝光時間是否大于預先設置在本地的第一閾值;
如果第一曝光時間大于第一閾值,則判斷所述第一曝光時間是否大于預先設置在本地的第二閾值;
如果第一曝光時間大于第二閾值,則增加所述紅外發(fā)射設備的紅外線發(fā)射強度,以減小所述第一曝光時間,使得所述第一曝光時間大于所述第一閾值且小于所述第二閾值。
其中,所述判斷第一曝光時間是否大于預先設置在本地的第一閾值的步驟之后還包括:如果第一曝光時間小于第一閾值,則減少所述紅外發(fā)射設備的紅外線發(fā)射強度。
其中,所述判斷所述第一曝光時間是否大于預先設置在本地的第二閾值的步驟之后還包括:如果第一曝光時間小于第二閾值,則保持所述紅外發(fā)射設備的紅外線發(fā)射強度。
其中,所述獲取第一曝光時間的步驟之前還包括:
獲取第二曝光時間,所述第二曝光時間為紅外發(fā)射設備關閉狀態(tài)下的當前曝光時間;
判斷所述第二曝光時間是否大于預先設置在本地的第三閾值;
如果第二曝光時間大于第三閾值,則向所述紅外發(fā)射設備發(fā)送第一控制信號使所述紅外發(fā)射設備開啟。
其中,所述的紅外發(fā)射設備的紅外線發(fā)射強度是通過控制驅動電流的脈沖寬度調制調節(jié)的。
為解決上述技術問題,本發(fā)明采用的另一個技術方案是:提供一種曝光補償裝置,包括:
第一曝光時間獲取模塊:用于獲取紅外發(fā)射設備開啟狀態(tài)下的當前曝光時間;
第一判斷模塊:用于判斷所述第一曝光時間是否大于預先設置在本地的第一閾值;
第二判斷模塊:用于在第一判斷模塊得出第一曝光時間大于第一閾值后,判斷所述第一曝光時間是否大于預先設置在本地的第二閾值;
第一紅外調整模塊:用于在第一曝光時間大于第二閾值時,增加所述紅外發(fā)射設備的紅外線發(fā)射強度,以減小所述第一曝光時間,使得所述第一曝光時間大于所述第一閾值且小于所述第二閾值。
其中,所述裝置還包括:
第二紅外調整模塊:用于當第一判斷模塊判斷出第一曝光時間小于預先設置在本地的第一閾值時,減少所述紅外發(fā)射設備的紅外線發(fā)射強度。
其中,所述裝置還包括:
第三紅外調整模塊:用于當第二判斷模塊判斷出第一曝光時間小于第二閾值時,保持所述紅外發(fā)射設備的紅外線發(fā)射強度。
其中,所述裝置還包括:
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于深圳市先河系統技術有限公司,未經深圳市先河系統技術有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110156167.3/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





