[發明專利]一種回轉體零件工藝檢索方法

有效

• 申請號: 201110156034.6
• 申請日: 2011-06-12
• 公開（公告）號: CN102207969B
• 公開（公告）日: 2011-10-05
• 發明（設計）人: 蘇少輝;陳國金;龔友平;胡杭民;戴錫鋒;顧齊齊;張哲夫
• 申請（專利權）人: 杭州電子科技大學
• 主分類號: G06F17/30
• 分類號: G06F17/30
• 代理公司: 杭州求是專利事務所有限公司 33200
• 代理人: 杜軍

1.一種回轉體零件工藝檢索方法，其特征在于該方法包括如下步驟：?

步驟1.?基于特征矢量的零件信息描述，具體包括以下步驟：

1-1.建立零件主特征矩陣,所述的主特征矩陣包括外部主單元特征矩陣?和內部主單元特征矩陣；

，

其中C?=?[,,……]，C表示外部圓柱特征矢量；O?=?[,,……]，O表示外部圓錐特征矢量；T?=?[,,……]，T表示外部螺紋特征矢量；G?=?[,,……]，G表示外部齒形特征矢量；=?[,,……]，表示內部圓柱特征矢量；=?[,,……]，表示內部圓錐特征矢量；=?[,,……]，表示內部螺紋特征矢量；=?[,,……]，表示內部齒形特征矢量；

上述特征矢量中的元素如果取值為1，則表示存在該特征；如果取值為0，則表示不存在該特征；

A?=?[,,……]，A表示外部精度特征矢量；=?[,,……]，表示內部精度特征矢量；精度特征矢量的元素取值為1、2、3、4、5或6，分別對應于精度等級≤IT5、IT6、IT7、IT8、IT9～IT10或＞IT10；

1-2.?建立零件輔助特征矩陣,所述的輔助特征矩陣包括外部輔助單元特征矩陣和內部輔助單元特征矩陣；

，

其中c?=?[,,……]，c表示外部倒角特征矢量；r?=?[,,……]，r表示外部環槽特征矢量；g?=?[,,……]，g表示外部鍵槽特征矢量；d?=?[,,……]，d表示外部徑向光孔或螺孔特征矢量；a?=?[,,……]，a表示外部軸向光孔或螺孔特征矢量；?=?[,,……]，表示內部倒角特征矢量；?=?[,,……]，表示內部環槽特征矢量；?=?[,,……]，表示內部鍵槽特征矢量；?=?[,,……]，表示內部徑向光孔或螺孔特征矢量；?=?[,,……]，表示內部軸向光孔或螺孔特征矢量；

上述特征矢量中的元素如果取值為1，則表示存在該特征；如果取值為0，則表示不存在該特征；

步驟2.工藝相似性檢索，具體包括以下步驟：

2-1通過零件分類編碼進入回轉體對應的可重用工藝庫，讀取實例零件特征矩陣；

2-2對外部主單元特征矩陣的1～4行，計算，其中分別為、、、，j=1,…4，?求得=|-?|，其中為實例零件對應的，p為實例零件的外部主單元特征數量，取=max()；

2-3對于的精度特征矢量，若有k個大于等于IT7的精度特征，占比例，實例零件有h個大于等于IT7的精度特征，占比例，計算=|-|；

2-4若≤且，則第一級匹配成功，執行步驟2-5；否則，匹配失敗，退出；其中為經驗系數；

2-5對內部主單元特征矩陣的1～4行，計算，其中分別為、、、，j=1,…4，?求得=|-?|，其中為實例零件對應的，p為實例零件的外部主單元特征數量，取=max()；

2-6對于的精度特征矢量，若有k個大于等于IT7的精度特征，占比例，實例零件有h個大于等于IT7的精度特征，占比例，計算=|-|；

2-7若≤且，則第二級匹配成功，執行步驟2-8；否則，匹配失敗，退出；其中為經驗系數；

2-8對于外部輔助單元特征矩陣，計算?其中分別為、、、、，求得???????????????????????????????????????????????=|-?|，j=1,…5，其中為實例零件對應的，取=max()；

2-9對于內部輔助單元特征矩陣，計算?其中分別為、、、、，求得=|-?|，j=1,…5，其中為實例零件對應的，取=max()，將與比較，取與值小者為；

2-10若≤，則第三級匹配成功，輸出結果；否則，輸出第二級匹配結果，結束；其中為經驗系數。