[發(fā)明專利]一種化學(xué)機械拋光液

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110153087.2
• 申請日: 2011-06-08
• 公開（公告）號: CN102816530A
• 公開（公告）日: 2012-12-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王晨;何華鋒
• 申請（專利權(quán)）人: 安集微電子(上海)有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;H01L21/304
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務(wù)所 31246
• 代理人: 李佳銘

1.一種化學(xué)機械拋光液，其包含：研磨顆粒、水、唑類化合物和哌嗪。

2.如權(quán)利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的研磨顆粒選自SiO₂、Al₂O₃、CeO₂、SiC和Si₃N₄中的一種或多種。

3.如權(quán)利要求1或2所述的拋光液，其特征在于：所述的研磨顆粒的質(zhì)量百分比濃度為1～20％。

4.如權(quán)利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的唑類化合物選自三氮唑和四氮唑及其衍生物中的一種或多種。

5.如權(quán)利要求4所述的拋光液，其特征在于：所述的唑類化合物為1，2，4-三氮唑，3-氨基-1，2，4-三氮唑，5-氨基-1，2，4-三氮唑，5-羧基-3-氨基-1，2，4-三氮唑、苯并三氮唑、1-H四氮唑、5-氨基四氮唑中的一種或多種。

6.如權(quán)利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的唑類化合物的質(zhì)量百分比濃度為1～8％。

7.如權(quán)利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的哌嗪的質(zhì)量百分比濃度為1～10％。

8.如權(quán)利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述拋光液還含有四甲基氫氧化銨。

9.如權(quán)利要求8所述的拋光液，其特征在于：所述的四甲基氫氧化銨的質(zhì)量百分比濃度為1～10％。

10.如權(quán)利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述拋光液的pH值為9～12。

11.如權(quán)利要求1-10任一項所述的拋光液，其特征在于：所述拋光液用于拋光單晶硅或多晶硅。