[發明專利]一種KNN基壓電織構厚膜的制備方法有效
| 申請號: | 201110153079.8 | 申請日: | 2011-06-09 |
| 公開(公告)號: | CN102285797A | 公開(公告)日: | 2011-12-21 |
| 發明(設計)人: | 翟繼衛;付芳 | 申請(專利權)人: | 同濟大學 |
| 主分類號: | C04B35/495 | 分類號: | C04B35/495;C04B35/622 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務所 31219 | 代理人: | 許亦琳;余明偉 |
| 地址: | 200092 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 knn 壓電 織構厚膜 制備 方法 | ||
1.一種K0.5Na0.5NbO3基壓電織構厚膜的制備方法,包括如下步驟:
(1)制備基料:制備K0.5Na0.5NbO3基粉體基料;
(2)制備模板:采用熔鹽法制備NaNbO3片狀粉體模板;
(3)將所述NaNbO3片狀粉體模板和K0.5Na0.5NbO3基粉體基料混配并研磨2-3小時,混合均勻后加入配好的粘結劑并繼續研磨30-60分鐘,獲得漿料;
(4)將步驟(3)獲得的漿料在帶有Ag-Pd底電極的氧化鋁襯底上進行絲網印刷,獲得印刷后的膜片,將印刷后的膜片烘干,再重復絲網印刷和烘干步驟3-8次,得到厚度為25-70μm的生坯,將生坯依次進行等靜壓處理、熱處理后獲得厚度為20-50μm的K0.5Na0.5NbO3基壓電織構厚膜。
2.如權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)中,所述K0.5Na0.5NbO3基粉體基料為(K1-x-yNaxLiy)(Nb1-m-nTamSbn)O3,其中0.45≤x≤0.52,0≤m≤0.12,0≤y≤0.07,0≤n≤0.07且y=n。
3.如權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(3)中,以模板與基料的重量之和為基礎,所述模板所占的重量百分比為15%-25%。
4.如權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(3)中,所述粘結劑為乙基纖維素溶入松油醇中形成,且乙基纖維素和松油醇的重量比為1∶(9.5-10.5)。
5.如權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(4)中,所述絲網印刷時,絲網的目數為150-250目。
6.如權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(4)中,印刷后的膜片烘干溫度為90-110℃,烘干時間為5-10分鐘。
7.如權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(4)中,所述等靜壓處理的壓力為200MPa。
8.如權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(4)中,所述熱處理的溫度為1120-1170℃,保溫時間為3-5小時,升溫速度為3-5℃/分鐘。
9.如權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(4)中,所述熱處理在硅碳棒爐中進行。?
10.一種K0.5Na0.5NbO3基壓電織構厚膜,為根據權利要求1-9任一所述的K0.5Na0.5NbO3基壓電織構厚膜的制備方法制得。?
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