[發明專利]成像裝置以及該成像裝置的控制方法

有效

• 申請號: 201110152903.8
• 申請日: 2011-06-09
• 公開（公告）號: CN102289165A
• 公開（公告）日: 2011-12-21
• 發明（設計）人: 橫山卓平;宮寺達也
• 申請（專利權）人: 株式會社理光
• 主分類號: G03G15/00
• 分類號: G03G15/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 王冉

技術領域

本發明涉及利用濃度調整技術的成像裝置以及該成像裝置的控制方法。

背景技術

成像裝置具備制像條件控制裝置，該控制裝置用于制作試驗圖案并讀取該圖案，適當設定包括充電偏壓、顯影偏壓、光束功率的制像條件，從而在制像時無論諸如環境溫度或濕度、調色劑劣化、以及感光體劣化等制像條件是否發生變化，該成像裝置也能夠以一定濃度制像。在此，所謂充電偏壓是指鼓狀感光體等像載置體通過充電器施加偏壓所得到的表面電位，所謂顯影偏壓是指顯影輥等顯影劑供給部通過顯影器施加偏壓所得到的電位。光束功率是指光寫入裝置的輸出光強度。

一般的濃度調整過程如下。

(1)在固定充電偏壓的情況下

用多個顯影偏壓來制作試驗圖案即涂寫圖案的圖像，從中推斷涂寫圖案的濃度相對于顯影偏壓的變化，設定涂寫濃度變得合適時的顯影偏壓。此時，光束功率的大小若能夠使得制于感光體上的涂寫圖案的潛像部分的表面電位達到飽和程度，濃度調整便不會發生問題。另外，成像裝置的光束大小必須大于所要制作的潛像的一個像素的大小，以使得副掃描方向上的潛像之間不會出現間隙，為此在制作涂寫圖案時，圖像可以有重合部分。出于該原因，在涂寫圖案中容易輸出可使得感光體表面電位達到飽和程度的光束功率。

而后，在已定顯影偏壓下以多個光束功率制作半色調試驗圖案即半色調圖案的圖像，推斷半色調圖案濃度相對于光束功率的變化，設定半色調濃度變得合適時的顯影偏壓。另外，半色調圖案因潛像中重合部分較少，因此，用于設定適當濃度的光束功率的大小只要能夠使得涂寫圖案中感光體表面電位達到飽和程度便可。

如果充電偏壓為合適的固定值，則可用涂寫圖案以及半色調圖案的設定濃度來制作濃度適當的圖像。

(2)在固定現影偏壓的情況下

此時，用多個充電偏壓來制作試驗圖案即涂寫圖案的圖像，從中推斷涂寫圖案的濃度相對于顯影偏壓的變化，設定涂寫濃度變得恰當時的充電偏壓。之后的處理與“(1)在固定充電偏壓的情況下”的后半程處理相同。

在上述充電偏壓或顯影偏壓為固定以外的情況下，還可以用多種充電偏壓和顯影偏壓的組合來制作涂寫圖案的圖像，從中選擇具有恰當濃度的組合。進而，還可以用多種充電偏壓、顯影偏壓以及光束功率的組合來制作涂寫圖案以及/或者半色調圖案的圖像，從中選擇具有合適濃度的組合。

在上述類型的成像裝置中，針對能夠對應多種分辨率如600dpi(單位英寸打印的點數)和1200dpi的要求，目前既存的技術方案提出了能夠對應多種分辨率的成像裝置。

但是，目前對應多種分辨率的成像裝置所采用的機構為與其所對應的多種分辨率中最高分辨率相對應，例如，對應600dpi和1200dpi的成像裝置采用的機構與1200dpi相對應。為此，該成像裝置不但具有產品成本上升的問題，而且還存在裝置大型化的問題。其原因在于，要將感光體上的光束大小與較高一方的分辨率相配，需要比與較低一方的分辨率相配時精度較高的大型光學系統，這樣，不但增加成本，而且造成成像裝置的筐體大型化。進而，在低分辨率時，對于高分辨率時實行的上述濃度調整不作任何調節地就此使用。

出于上述原因，當以降低產品成本為目的而希望采用與低分辨率相對應的機構時，會因以下問題而難以達到目的。

首先，如果配合低分辨率，則對于高分辨率時的一個像素來說，光束過大，會引起發生圖像破壞的問題。但是，該問題可通過調整濃度得以解決。通常光束的特性為，光束中心部分的光強度最大，隨著接近周邊該光強度逐漸變低，為此，通過濃度調整可實質性地使得光束變細，解消圖像破壞，使成像裝置能夠對應高分辨率。

關于濃度調整，具體為通過減小光束功率或提高充電偏壓，來減小半色調圖案圖像制作使得顯影劑吸附量，避免引起圖像破壞。至于涂寫圖案的濃度，由于即便改變分辨率也不會使得將要制作的圖案圖像將出現偏差，因此不會造成問題。

但是，在將感光體上的光束與低分辨率相配時，如果減小光束功率，在僅用低分辨率制像時，會引起光束功率的光量要求范圍變大，從而發生需要采用高輸出光源的問題。不僅如此，光量要求范圍變大還會引起設定任意光量時精度降低的問題。其結果需要高輸出且光量設定精度高的光源，這有脖于降低產品成本的要求。

在提高充電偏壓時，由于增大了充電偏壓與顯影偏壓之間的電位差，因而容易引起質地污染問題的發生。

因此，如果采用現有技術來調整濃度，只能為了制作冗長而無用的圖案圖像而浪費顯影劑，而且浪費調整時間，而不能充分地實行調整。