[發(fā)明專利]一種陣列基板

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110152260.7
• 申請(qǐng)日: 2011-06-08
• 公開（公告）號(hào): CN102645788A
• 公開（公告）日: 2012-08-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳松;張南紅
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/1337
• 分類號(hào): G02F1/1337
• 代理公司: 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及液晶顯示器面板制造技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種陣列基板。

背景技術(shù)

液晶顯示器(LCD)通過(guò)控制液晶分子的旋轉(zhuǎn)方向和角度來(lái)控制穿透液晶層的光量，從而顯示各種灰度的圖像，因此液晶顯示器內(nèi)必須有一層均勻取向的定向?qū)樱瑥亩_保液晶分子是均勻排列的。

在各種液晶顯示器定向?qū)拥闹圃旆椒ㄖ校Σ练?Rubbing)是最為常用的方法。采用摩擦法制造液晶顯示器定向?qū)拥闹圃旆椒ㄈ缦拢?/p>

涂覆了定向?qū)拥年嚵?Array)基板放置在基臺(tái)上，滾輪上纏繞了摩擦布，與基板接觸并且高速轉(zhuǎn)動(dòng)，同時(shí)基臺(tái)向某一方向移動(dòng)從而實(shí)現(xiàn)對(duì)整塊基板的摩擦處理。基板上的定向?qū)咏?jīng)過(guò)這樣的摩擦處理后，形成了均勻的微槽，具有了定向液晶分子的能力。

現(xiàn)有技術(shù)中，液晶基板定向?qū)拥倪吘墪?huì)設(shè)置測(cè)試元件組(TEG，Test?Element?Group)，圖1為現(xiàn)有技術(shù)中TEG邊緣設(shè)計(jì)的剖面圖，由圖1可以看出，第一金屬層11、第二金屬層12以及第三金屬層13的邊緣基本在一個(gè)垂直線上，形成的邊緣坡度非常陡峭，采用這種邊緣形狀的基板進(jìn)行摩擦?xí)r，摩擦布與基板直接接觸，在摩擦?xí)rTEG的邊緣會(huì)對(duì)摩擦布帶來(lái)?yè)p傷，使用帶有損傷的摩擦布制造出來(lái)的定向?qū)硬荒鼙ＷC液晶分子均勻排列，進(jìn)而影響液晶顯示效果。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種陣列基板，以解決在液晶顯示器定向?qū)拥闹圃鞎r(shí)，基板邊緣容易對(duì)摩擦布產(chǎn)生損傷的問題。

本發(fā)明提供的一種陣列基板，在該陣列基板上表面形成有用于減小對(duì)摩擦布損傷的階梯結(jié)構(gòu)。

具體的，所述階梯結(jié)構(gòu)可以是由測(cè)試元件組TEG所形成，該TEG包括至少兩獨(dú)立膜層和至少一覆蓋膜層，至少一組相鄰獨(dú)立膜層一端從下至上縮進(jìn)形成有階梯狀，外部的覆蓋膜層對(duì)應(yīng)獨(dú)立膜層一端的階梯狀處也形成階梯狀。

具體的，所述階梯結(jié)構(gòu)可以為與TEG具有相同的膜層的結(jié)構(gòu)層，該結(jié)構(gòu)層包括至少兩獨(dú)立膜層和至少一覆蓋膜層，至少一組相鄰獨(dú)立膜層一端從下至上縮進(jìn)形成有階梯狀，外部的覆蓋膜層對(duì)應(yīng)獨(dú)立膜層一端的階梯狀處也形成階梯狀，該結(jié)構(gòu)層與TEG之間具有設(shè)定距離，所述設(shè)定距離為不對(duì)摩擦布造成損傷的安全距離。

具體的，所述階梯結(jié)構(gòu)可以為TEG以及該陣列基板上的至少一個(gè)結(jié)構(gòu)層形成，各結(jié)構(gòu)層的厚度按照與TEG的距離不同而變化，與TEG間距離越遠(yuǎn)的結(jié)構(gòu)層的厚度越小，而且兩個(gè)相鄰的結(jié)構(gòu)層的相鄰邊緣之間、與TEG相鄰的結(jié)構(gòu)層與TEG的相鄰邊緣之間具有設(shè)定距離，所述設(shè)定距離為不對(duì)摩擦布造成損傷的安全距離。

具體的，所述階梯結(jié)構(gòu)可以為該陣列基板上的至少兩個(gè)結(jié)構(gòu)層形成，各結(jié)構(gòu)層的厚度按照與TEG的距離不同而變化，與TEG間距離越遠(yuǎn)的結(jié)構(gòu)層的厚度越小，與TEG相鄰的結(jié)構(gòu)層與TEG具有相同的膜層，而且兩個(gè)相鄰的結(jié)構(gòu)層的相鄰邊緣之間、與TEG相鄰的結(jié)構(gòu)層與TEG的相鄰邊緣之間具有設(shè)定距離，所述設(shè)定距離為不對(duì)摩擦布造成損傷的安全距離。

在上述方案中，所述階梯結(jié)構(gòu)還可以為與TEG具有相同的膜層的結(jié)構(gòu)層，該結(jié)構(gòu)層包括至少兩獨(dú)立膜層和至少一覆蓋膜層，至少一組相鄰獨(dú)立膜層一端從下至上縮進(jìn)形成有階梯狀，外部的覆蓋膜層對(duì)應(yīng)獨(dú)立膜層一端的階梯狀處也形成階梯狀。

所述設(shè)定距離大于曝光機(jī)的對(duì)準(zhǔn)精度，并且小于摩擦布毛纖維直徑。

所述結(jié)構(gòu)層上端的平臺(tái)的長(zhǎng)度大于摩擦布毛纖維直徑。

本發(fā)明在陣列基板上表面形成有用于減小對(duì)摩擦布損傷的階梯結(jié)構(gòu)，減少了現(xiàn)有技術(shù)中基板上TEG對(duì)摩擦布產(chǎn)生的損傷，不僅降低了摩擦不良的發(fā)生率，而且延長(zhǎng)摩擦布的使用壽命節(jié)約生產(chǎn)成本。

附圖說(shuō)明

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中TEG邊緣設(shè)計(jì)的剖面示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例一所述的TEG邊緣設(shè)計(jì)剖面示意圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例二所述的TEG邊緣設(shè)計(jì)剖面示意圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例三所述的TEG邊緣設(shè)計(jì)剖面示意圖；

圖5為本發(fā)明實(shí)施例四所述的TEG邊緣設(shè)計(jì)剖面示意圖。

具體實(shí)施方式

本發(fā)明提供的陣列基板，在該陣列基板上表面形成有用于減小對(duì)摩擦布損傷的階梯結(jié)構(gòu)，從而減少摩擦工藝中對(duì)摩擦布的損傷。

作為第一種實(shí)施方式，所述階梯結(jié)構(gòu)可以是由測(cè)試元件組TEG所形成，即形成邊緣為階梯狀的TEG，該TEG包括至少兩獨(dú)立膜層和至少一覆蓋膜層，至少一組相鄰獨(dú)立膜層一端從下至上縮進(jìn)形成有階梯狀，外部的覆蓋膜層對(duì)應(yīng)獨(dú)立膜層一端的階梯狀處也形成階梯狀。