[發明專利]制備偏振片的方法無效
| 申請號: | 201110148701.6 | 申請日: | 2011-05-27 |
| 公開(公告)號: | CN102311552A | 公開(公告)日: | 2012-01-11 |
| 發明(設計)人: | 李宗錫;崔允碩;柳智熙;趙成祐 | 申請(專利權)人: | 東友精細化工有限公司 |
| 主分類號: | C08J5/18 | 分類號: | C08J5/18;C08J3/24;C08F16/06;G02B5/30 |
| 代理公司: | 北京金信立方知識產權代理有限公司 11225 | 代理人: | 朱梅;徐琳 |
| 地址: | 韓國全*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制備 偏振 方法 | ||
1.一種偏振片的制備方法,該方法包括以下步驟:
通過將聚乙烯醇膜浸入包含硼化合物的第一交聯溶液中而進行的第一交聯;和
通過將所述聚乙烯醇膜浸入包含含有至少兩個羧基的線型多元羧酸化合物的第二交聯溶液中而進行的第二交聯。
2.根據權利要求1所述的方法,其中,相對于100重量%的第一交聯溶液,所述硼化合物的含量為1至10重量%。
3.根據權利要求1所述的方法,其中,所述含有至少兩個羧基的線型多元羧酸化合物為選自琥珀酸、戊二酸、己二酸、乙二酸、酒石酸、檸檬酸、1,2,3,4-丁烷四甲酸及其衍生物中的至少一種。
4.根據權利要求1所述的方法,其中,相對于100重量%的第二交聯溶液,所述含有至少兩個羧基的線型多元羧酸化合物的含量為0.1至10重量%。
5.根據權利要求1所述的方法,其中,相對于1重量份的含有至少兩個羧基的線型多元羧酸化合物,所述第二交聯溶液進一步包含10重量份以下的硼化合物。
6.根據權利要求1所述的方法,其中,在所述第一交聯之后進行所述第二交聯,或者在所述第二交聯之后進行所述第一交聯。
7.根據權利要求1所述的方法,其中,所述第一交聯、所述第二交聯或者所述第一交聯過程與所述第二交聯過程的組合重復進行至少兩次。
8.一種偏振板,其通過將保護膜層壓在通過權利要求1至7中任一項所述的制備方法制備的偏振片的至少一面上而制造。
9.根據權利要求8所述的偏振板,其進一步包括層壓在所述偏振片或偏振片保護膜上的選自相位延遲膜、視角補償膜和亮度增強膜中的至少一種膜。
10.一種圖像顯示器件,其包括權利要求8所述的偏振板。
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