[發明專利]一種天線及具有該天線的MIMO天線

有效

• 申請號: 201110145107.1
• 申請日: 2011-05-31
• 公開（公告）號: CN103036015A
• 公開（公告）日: 2013-04-10
• 發明（設計）人: 劉若鵬;徐冠雄;楊松濤
• 申請（專利權）人: 深圳光啟高等理工研究院;深圳光啟創新技術有限公司
• 主分類號: H01Q1/38
• 分類號: H01Q1/38;H01Q5/01;H01Q21/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明屬于通信領域，具體地，涉及一種天線及具有該天線的MIMO天線。

背景技術

在傳統天線設計中當遇到天線使用空間小、工作頻率低、工作在多模等問題時，天線的性能將極大的受制于天線體積大小。天線體積的減小對應的天線的電長度也將受到影響，天線輻射效率及工作頻率將改變。傳統的偶極子天線及PIFA天線在面對現有通訊終端小體積、寬頻帶等問題時就顯得力不從心，設計難度極大最終也不能滿足使用的要求。傳統的天線在低頻段設計中只用通過外部的匹配線路來實現多模的輻射要求，在天饋系統中加入匹配網絡后功能上是可實現低頻、多模的工作要求，但是其輻射效率將極大的降低因為非常大的一部分能量損失在匹配網絡上。現有的超材料小天線，如公開號為CN201490337的中國專利，在設計中集成了新型人工電磁材料，因此其輻射具有非常豐富的色散特性，可以形成多種輻射模式，即可免去繁瑣的阻抗匹配網絡，這種豐富的色散特性為多頻點的阻抗匹配帶來了極大的便利。盡管如此現有的超材料小天線在面對現有終端設備小體積、低工作頻率、寬帶多模等問題時，設計的過程中也受到了極大的制約。

同時，天線在不同的產品中工作的環境及電磁特性存在較大的差異性，將會導致天線性能在設計和使用中存在較大的差異，所以要求設計出的天線必須具有較強的適應性及通用性。綜上所述，原有的技術在使用中將就會遇到通用性及性能差異性的問題。

發明內容

本發明要解決的一個技術問題是，針對天線在不同產品中工作環境及電磁特性存在較大的差異性，導致天線性能在設計和使用中存在較大的差異，提供一種天線，該天線具有較強的適應性及通用性。

本發明解決上述技術問題所采用的技術方案是：提供一種天線，其包括具有兩相對側面的第一介質基板和第二介質基板；所述第一介質基板第一側面設置有第一金屬片以及圍繞所述第一金屬片設置的第一饋線，與所述第一側面相對的第二側面設置有第二金屬片以及圍繞所述第二金屬片設置的第二饋線，所述第一饋線與所述第二饋線均通過耦合方式各自饋入所述第一金屬片與所述第二金屬片；所述第二介質基板一側表面與所述第一介質基板第二側面重合，相對的另一側表面設置有第三金屬片；所述第一金屬片上鏤空有非對稱的第一微槽結構及第二微槽結構以在所述第一金屬片上形成第一金屬走線，所述第二金屬片上鏤空有非對稱的第三微槽結構及第四微槽結構以在所述第二金屬片上形成第二金屬走線，所述第一饋線與所述第二饋線電連接，所述第二饋線與所述第四饋線電連接，所述天線預設有供電子元件嵌入的空間。

進一步地，所述空間設置在所述第一饋線、所述第一饋線與所述第一金屬片之間及所述第一金屬片這三個位置的至少一個上。

進一步地，所述空間設置在所述第二饋線、所述第二饋線與所述第二金屬片之間及所述第二金屬片這三個位置的至少一個上。

進一步地，所述空間設置在所述第一金屬片上的第一金屬走線上，或者所述空間設置在所述第一微槽結構和/或所述第二微槽結構上。

進一步地，所述空間設置在所述第二金屬片上的第二金屬走線上，或者所述空間設置在所述第三微槽結構和/或所述第四微槽結構上。

進一步地，所述電子元件為感性電子元件、容性電子元件或者電阻。

進一步地，所述空間為形成在所述天線上的焊盤。

進一步地，所述感性電子元件電感值的范圍在0-5uH之間。

進一步地，所述容性電子元件電容值的范圍在0-2pF之間。

實施本發明的天線，相對于現有的天線，具有以下有益效果：通過在天線上設置供電子元件嵌入的空間，可以通過改變嵌入的電子元件的性能對天線的性能進行微調，設計出滿足適應性及通用性的要求的天線。另外，介質基板兩面均設置有金屬片，充分利用了天線的空間面積，在此環境下天線能在較低工作頻率下工作，滿足天線小型化、低工作頻率、寬帶多模的要求。另外，在第一金屬片上鏤空有非對稱的第一微槽結構及第二微槽結構，且在第二金屬片上鏤空有非對稱的第三微槽結構及第四微槽結構，因此能夠很容易地產生多個諧振點，且諧振點不易抵消，很容易實現多模諧振，輕易實現天線的多?；?。

本發明所要解決的另一個問題是提供一種MIMO天線。

本發明解決上述技術問題所采用的方案是：一種MIMO天線，所述MIMO天線包括多個上述的天線。

根據本發明的MIMO天線，除了具備上述天線本身的特點外，還具有很高的隔離度，多個天線之間的抗干擾能力強。

附圖說明

圖1是本發明天線第一介質基板第一實施方式A面視角結構示意圖；