[發明專利]記錄介質有效
| 申請號： | 201110144339.5 | 申請日： | 2011-05-26 |
| 公開（公告）號： | CN102294907A | 公開（公告）日： | 2011-12-28 |
| 發明（設計）人： | 小栗勲;加茂久男;仁藤康弘;野口哲朗;田栗亮;蘇秀兒;八田直也 | 申請（專利權）人： | 佳能株式會社 |
| 主分類號： | B41M5/52 | 分類號： | B41M5/52 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人： | 李帆 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 記錄 介質 | ||
【權利要求書】：
1.記錄介質，包括基材以及在該基材上依次設置的第一層和最外層，其中該第一層含有氧化鋁和水合氧化鋁中的至少一種，該最外層含有顏料并且在折射率上低于該第一層，并且該最外層的絕對干燥涂布量為0.1g/m2-0.5g/m2。
2.根據權利要求1的記錄介質，其中該最外層中含有的顏料是氣相法二氧化硅。
3.根據權利要求1的記錄介質，其中基于該顏料，該最外層以30.0質量％以下的量含有粘結劑。
4.根據權利要求1的記錄介質，其中該最外層中含有的顏料的平均一次粒徑為7.0nm以下。
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