[發明專利]濺射靶材維護用管道系統

無效

• 申請號: 201110143567.0
• 申請日: 2011-05-31
• 公開（公告）號: CN102808157A
• 公開（公告）日: 2012-12-05
• 發明（設計）人: 羅明新
• 申請（專利權）人: 無錫華潤上華半導體有限公司;無錫華潤上華科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種濺射靶材維護用管道系統，包括供水設備、供氣設備、回水設備、若干閥裝置及若干起連接作用的管道，所述管道包括接自供水設備的供水管、接自供氣設備的吹氣管、接入回水設備的回水管及接自靶材的排水管，其特征在于：所述供氣設備通過吹氣管連入靶材內，所述靶材通過所述回水管和排水管兩路接入所述回水設備，所述排水管的末端設有一接入所述回水設備的尾管。

2.如權利要求1所述的濺射靶材維護用管道系統，其特征在于：所述尾管為不銹鋼材質。

3.如權利要求2所述的濺射靶材維護用管道系統，其特征在于：該濺射靶材維護用管道系統包括冷卻水系統和吹水系統，該冷卻水系統和吹水系統單獨運行。

4.如權利要求3所述的濺射靶材維護用管道系統，其特征在于：所述回水管和所述排水管相連并通過一第一三通閥進行切換，所述供水管和吹氣管相連且在連接處設有一第二三通閥，該第二三通閥用于在供氣和供水之間相互切換。

5.如權利要求4所述的濺射靶材維護用管道系統，其特征在于：所述吹水系統包括供氣設備、第二三通閥、第一三通閥、排水管及設于排水管上的手動閥，該吹水系統運作時供氣設備內的壓縮氣體進入所述靶材內使靶材內的水流入排水管并通過所述不銹鋼尾管最后流入回水設備內。

6.如權利要求5所述的濺射靶材維護用管道系統，其特征在于：所述冷卻水系統包括所述供水設備、第二三通閥、第一三通閥、回水管、設于回水管上的回水壓力表、及回水設備。