[發(fā)明專利]電流擴(kuò)散電極、半導(dǎo)體發(fā)光器件及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110142451.5 | 申請日： | 2011-05-30 |
| 公開（公告）號： | CN102810613A | 公開（公告）日： | 2012-12-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 張戈 | 申請（專利權(quán)）人： | 比亞迪股份有限公司 |
| 主分類號： | H01L33/36 | 分類號： | H01L33/36;H01L33/42;H01L33/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 518118 廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 電流 擴(kuò)散 電極 半導(dǎo)體 發(fā)光 器件 及其 制備 方法 | ||
1.一種電流擴(kuò)散電極，其特征在于，所述電流擴(kuò)散電極包括單晶薄膜層和透明導(dǎo)電薄膜層，所述單晶薄膜層和透明導(dǎo)電薄膜層呈互補(bǔ)排列形成單層復(fù)合膜，該單層復(fù)合膜可與p型氮化物層接觸，所述單晶薄膜層的材料為透明導(dǎo)電氧化物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電流擴(kuò)散電極，其特征在于，所述單晶薄膜層和透明導(dǎo)電薄膜層的表面呈粗糙態(tài)，且兩種薄膜層的粗糙程度不同。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電流擴(kuò)散電極，其特征在于，所述單晶薄膜層的材料為氧化鋅摻鋁，透明導(dǎo)電薄膜層的材料為氧化銦錫。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電流擴(kuò)散電極，其特征在于，所述單晶薄膜層和透明導(dǎo)電薄膜層均為條紋狀圖案，且相互間隔交替排列形成單層復(fù)合膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電流擴(kuò)散電極，其特征在于，所述單晶薄膜層的折射率為1.8-1.9。
6.一種電流擴(kuò)散電極的制備方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：
S11、在p型氮化物層上通過MOCVD方法沉積一單晶薄膜層；
S12、在單晶薄膜層上涂覆光刻膠，并進(jìn)行光刻處理，得到預(yù)設(shè)的光刻膠圖案；
S13、刻蝕去除未被光刻膠保護(hù)的單晶薄膜層，得到單晶薄膜層和p型氮化物層互補(bǔ)排列的圖案；
S14、在單晶薄膜層和p型氮化物層互補(bǔ)排列的圖案上通過低溫蒸鍍沉積一層透明導(dǎo)電薄膜；
S15、去膠和剝離處理，去除光刻膠和附著于光刻膠上的透明導(dǎo)電薄膜，得到單晶薄膜層和透明導(dǎo)電薄膜層互補(bǔ)排列形成的單層復(fù)合膜結(jié)構(gòu)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電流擴(kuò)散電極的制備方法，其特征在于，所述步驟S12為：在單晶薄膜層上涂覆光刻膠，并進(jìn)行光刻處理，得到在單晶薄膜層上間隔交替排列的條紋狀光刻膠圖案；
步驟S13為：刻蝕去除未被光刻膠保護(hù)的單晶薄膜層，得到單晶薄膜層和p型氮化物層間隔交替排列的條紋狀圖案；
步驟S14為：在單晶薄膜層和p型氮化物層間隔交替排列的條紋狀圖案上通過低溫蒸鍍沉積一層透明導(dǎo)電薄膜；
步驟S15為：去膠和剝離處理，去除光刻膠和附著于光刻膠上的透明導(dǎo)電薄膜，得到單晶薄膜層和透明導(dǎo)電薄膜層間隔交替排列形成的單層復(fù)合膜結(jié)構(gòu)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的電流擴(kuò)散電極，其特征在于，所述單晶薄膜層的材料為氧化鋅摻鋁，透明導(dǎo)電薄膜層的材料為氧化銦錫。
9.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的電流擴(kuò)散電極的制備方法，其特征在于，所述步驟S12中，在單晶薄膜層上涂覆的光刻膠為正性光刻膠。
10.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的電流擴(kuò)散電極的制備方法，其特征在于，所述步驟S13中具體為：濕法刻蝕去除未被光刻膠保護(hù)的單晶薄膜層。
11.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的電流擴(kuò)散電極的制備方法，其特征在于，所述步驟S15具體包括：將被光刻膠覆蓋的基體順序放入去膠液、丙酮和異丙酮中浸泡，以達(dá)到光刻膠和附著于光刻膠上的透明導(dǎo)電薄膜脫離。
12.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的電流擴(kuò)散電極的制備方法，其特征在于，所述步驟S15之后還包括：將單層復(fù)合膜結(jié)構(gòu)放入粗化液中浸泡，使單晶薄膜層和透明導(dǎo)電薄膜層的表面呈凹凸粗糙態(tài)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的電流擴(kuò)散電極的制備方法，其特征在于，所述粗化液包括酸液、氧化劑、緩沖劑和PH調(diào)節(jié)劑，其中所述酸液：氧化劑：緩沖劑：PH調(diào)節(jié)劑的體積比為（50-60%）：（20-30%）：（5-10%）：（5-10%）。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的電流擴(kuò)散電極的制備方法，其特征在于，所述單層復(fù)合膜結(jié)構(gòu)在35-40度的粗化液中浸泡3-5分鐘。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的電流擴(kuò)散電極的制備方法，其特征在于，在將單層復(fù)合膜結(jié)構(gòu)放入粗化液中浸泡之前，還包括對單層復(fù)合膜進(jìn)行消除靜電的步驟。
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