[發(fā)明專利]彩膜基板、液晶顯示裝置及其制造方法

無效

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• 申請日: 2011-05-26
• 公開（公告）號: CN102681241A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陸金波;楊久霞
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02F1/1333;G02B5/20
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及液晶顯示領(lǐng)域，尤其涉及一種彩膜基板液晶顯示裝置及其制造方法。

背景技術(shù)

薄膜晶體管液晶顯示器由彩膜基板和陣列基板對盒而成，其中彩膜基板主要為薄膜晶體管液晶顯示器提供色彩，如圖1和2所示，包括透明基板11、設(shè)置在透明基板11上的黑矩陣12以及設(shè)置在由黑矩陣12形成的像素區(qū)域中的像素樹脂13，像素樹脂13由多個平行設(shè)置的R(紅)、G(綠)、B(藍)子像素樹脂構(gòu)成。

在制造彩膜基板的過程中，在透明基板上先形成黑矩陣后形成像素樹脂，形成像素樹脂的過程包括在設(shè)有黑矩陣的透明基板上鋪設(shè)一層像素樹脂層，通過曝光工藝形成像素樹脂，像素樹脂設(shè)置在由黑矩陣形成的像素區(qū)域中。

在實現(xiàn)本發(fā)明實施例的過程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，現(xiàn)有技術(shù)至少存在以下問題：在曝光工藝中，稍有偏差就會導致像素樹脂無法填滿黑矩陣所形成的像素區(qū)域，導致漏光的現(xiàn)象，從而影響了產(chǎn)品的良品率。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明實施例提供一種彩膜基板、液晶顯示裝置及其制造方法，以解決在曝光工藝中，稍有偏差就會導致像素樹脂無法填滿黑矩陣所形成的像素區(qū)域，導致漏光的現(xiàn)象的問題。

為達到上述目的，本發(fā)明實施例采用如下技術(shù)方案：

一種彩膜基板，包括透明基板，還包括設(shè)于所述透明基板上的像素樹脂以及設(shè)于所述像素樹脂上的黑矩陣，所述像素樹脂由多個平行設(shè)置的R(紅)、G(綠)、B(藍)子像素樹脂構(gòu)成，各個子像素樹脂彼此之間緊密相連，所述黑矩陣將每兩個子像素的交接處覆蓋。

進一步的，為了保護像素樹脂，所述彩膜基板還包括保護層，所述保護層設(shè)置在設(shè)有像素樹脂和黑矩陣的透明基板上。

進一步的，為了滿足TN型液晶顯示器、VA型液晶顯示器等的液晶顯示器需求，所述彩膜基板還包括透明導電層；

所述透明導電層設(shè)置在所述保護層上，使得透明導電層起到公共電極的作用。或者

所述透明導電層設(shè)置在設(shè)有像素樹脂和黑矩陣的透明基板上，使得透明導電層起到公共電極的作用。

進一步的，為了使得彩膜基板能夠與陣列基板對盒以形成液晶顯示裝置，所述彩膜基板還包括柱狀隔墊物，所述柱狀隔墊物對應(yīng)于所述黑矩陣設(shè)置在黑矩陣或者保護層或者透明導電層上。

一種液晶顯示裝置，其特征在于，包括上述的彩膜基板。

一種彩膜基板的制造方法，包括：

在透明基板上涂覆像素樹脂層，通過曝光并顯影形成像素樹脂，所述像素樹脂由多個平行設(shè)置的R(紅)、G(綠)、B(藍)子像素樹脂構(gòu)成，各個子像素樹脂彼此之間緊密相連；在形成有像素樹脂的透明基板上涂覆黑矩陣用光阻劑，通過曝光并顯影形成黑矩陣，所述黑矩陣將每兩個子像素的交接處覆蓋。

進一步的，為了保護像素樹脂，所述彩膜基板的制造方法，還包括：在形成有像素樹和黑矩陣的透明基板上涂覆保護層并進行固化處理。

進一步的，為了滿足TN型液晶顯示器、VA型液晶顯示器等的液晶顯示器需求，所述彩膜基板的制造方法，還包括：

在所述保護層上濺鍍一層透明導電層；或者

在形成有像素樹脂和黑矩陣的基板上濺鍍一層透明導電層。

進一步的，為了使得彩膜基板能夠與陣列基板對盒以形成液晶顯示裝置，所述彩膜基板的制造方法，還包括：涂覆一層隔墊物用樹脂，通過曝光和顯影在對應(yīng)于所述黑矩陣的位置上形成位于所述黑矩陣或者保護層或者透明導電層上的隔墊物。

本發(fā)明實施例提供的彩膜基板、液晶顯示裝置及其制造方法，由于黑矩陣設(shè)置在像素樹脂上，且像素樹脂中各個子像素樹脂彼此之間緊密相連，黑矩陣將每兩個子像素的交接處覆蓋，使得進黑矩陣形成的像素區(qū)域由像素樹脂完全對應(yīng)，避免了現(xiàn)有技術(shù)中稍有偏差就會導致像素樹脂無法填滿黑矩陣所形成的像素區(qū)域，導致漏光的現(xiàn)象的問題。

附圖說明

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中彩膜基板的剖面示意圖；

圖2為現(xiàn)有技術(shù)中彩膜基板的俯視示意圖；

圖3為本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖一；

圖4為本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖二；

圖5為本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖三；

圖6為本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖四；

圖7為本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的制造方法的流程圖一；

圖8為圖7所示的彩膜基板的制造方法中步驟701的流程圖；

圖9為本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的制造方法的流程圖二；

圖10為本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的制造方法的流程圖三；