[發明專利]電致變色顯示器件、其制備方法、陰極結構及微格陣列

有效

• 申請號: 201110134847.5
• 申請日: 2011-05-23
• 公開（公告）號: CN102650787A
• 公開（公告）日: 2012-08-29
• 發明（設計）人: 渠路;李文波
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/153
• 分類號: G02F1/153;G02F1/155
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種電致變色顯示器件，包括：在第二導電基材上依次形成的微格陣列、陰極薄膜、第一導電基材及密封材料，所述微格陣列中每個微格內填充有陽極材料，所述密封材料用于密封所述陰極薄膜及所述陽極材料，其特征在于，

所述陰極薄膜的至少一個側邊具有阻擋條，所述阻擋條在垂直于所述第一導電基材方向上的厚度與所述陰極薄膜的厚度相同；

所述微格陣列四周的外墻中有三面外墻的高度超出所述微格的高度，以在所述微格上方形成具有缺口的抽屜狀導槽，所述超出的高度與所述陰極薄膜的厚度相同，所述抽屜狀導槽的內部尺寸與具有所述阻擋條的所述陰極薄膜的外周尺寸匹配，以使具有所述阻擋條的所述陰極薄膜嵌入所述抽屜狀導槽中，且所述阻擋條對應于所述缺口的位置。

2.根據權利要求1所述的電致變色顯示器件，其特征在于，所述阻擋條由輻射固化材料制成。

3.根據權利要求1所述的電致變色顯示器件，其特征在于，所述微格陣列由輻射固化材料制成。

4.根據權利要求1所述的電致變色顯示器件，其特征在于，所述陰極薄膜的所述厚度與所述微格的高度比為1∶3～1∶10，優選為1∶5～1∶8。

5.根據權利要求1～4任一項所述的電致變色顯示器件，其特征在于，所述密封材料為紫外線固化膠或者低溫環氧樹脂膠。

6.一種電致變色顯示器件的制備方法，其特征在于，包括：

在第一導電基材上形成陰極薄膜；

在所述陰極薄膜的至少一個側邊形成阻擋條，所述阻擋條在垂直于所述第一導電基材方向上的厚度與所述陰極薄膜的厚度相同；

在第二導電基材上形成微格陣列，所述微格陣列四周的外墻中有三面外墻的高度超出所述微格陣列中微格的高度，以在所述微格上方形成具有缺口的抽屜狀導槽，所述超出的高度與所述陰極薄膜的厚度相同，所述抽屜狀導槽的內部尺寸與具有所述阻擋條的所述陰極薄膜的外周尺寸匹配；

在所述微格陣列的每個所述微格中填充陽極材料；

使所述陰極薄膜的、與具有所述阻擋條的側邊相對的另一側邊對準所述抽屜狀導槽的缺口，將所述陰極薄膜推入所述抽屜狀導槽內，以使所述第一、二導電基材、所述陰極薄膜與所述微格陣列扣合成盒狀結構；

用密封材料封裝所述盒狀結構。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述在所述陰極薄膜的至少一個側邊形成阻擋條，包括：

在所述陰極薄膜的至少一個側邊涂覆第一輻射固化材料并進行光固化，以在所述陰極薄膜的至少一個側邊形成所述阻擋條。

8.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述在第二導電基材上形成微格陣列，包括：

在所述第二導電基材上涂覆第二輻射固化材料；

通過灰階掩膜版將所述第二輻射固化材料光照固化；

清洗未固化的所述第二輻射固化材料以在所述第二導電基材上形成所述微格陣列。

9.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述在所述微格陣列的每個所述微格中填充陽極材料，包括：

采用刮涂或灌裝的方式在所述微格陣列的每個所述微格中填充陽極材料。

10.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述在第一導電基材上形成陰極薄膜，包括：

在所述第一導電基材上形成厚度為20～40μm的成膜用槽；

采用絲網印刷、刮涂或旋涂的方式在所述成膜用槽中填充陰極材料；

在30℃～50℃，優選為45℃的環境溫度下，對所述第一導電基材烘烤30min，形成厚度為5～20μm，優選為10～15μm的陰極薄膜；

去除所述成膜用槽。

11.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述使所述陰極薄膜的、與具有所述阻擋條的側邊相對的另一側邊對準所述抽屜狀導槽的缺口，包括：

采用紅外探測的方式使所述陰極薄膜的、與具有所述阻擋條的側邊相對的另一側邊對準所述抽屜狀導槽的缺口。