[發明專利]用于多靶濺射系統的電源裝置

無效

• 申請號: 201110132325.1
• 申請日: 2008-02-19
• 公開（公告）號: CN102243978A
• 公開（公告）日: 2011-11-16
• 發明（設計）人: T·布魯克;P·沃德;M·巴爾奈斯
• 申請（專利權）人: 因特瓦克公司
• 主分類號: H01J37/34
• 分類號: H01J37/34;H01J37/32
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 陳松濤;夏青

1.一種用于同時為多個濺射源供電的電源裝置，包括：

RF電源；

耦合到所述電源的阻抗匹配電路，所述阻抗匹配電路包括至少一個電感和一個電容；

多個可變電容，每一個所述可變電容耦合到所述阻抗匹配電路與所述多個濺射源中的相應一個之間；以及，

控制器，啟動所述可變電容中的每一個以單獨控制從所述阻抗匹配電路傳輸到所述多個濺射源中的每一個的功率量。

2.根據權利要求1所述的電源裝置，還包括：

第二RF電源，以180度相位提供輸出給所述RF電源的輸出；

耦合到所述第二RF電源的第二阻抗匹配電路，所述第二阻抗匹配電路包括至少一個電感和一個電容；

第二組可變電容，其每一個耦合在所述第二阻抗匹配電路與所述多個濺射源中的相應一個沒有耦合到所述阻抗匹配電路的濺射源之間；以及，

第二控制器，啟動所述第二組可變電容中的每一個以單獨控制從所述第二阻抗匹配電路所傳輸的功率量。

3.根據權利要求2所述的電源裝置，其中，所述多個濺射源以依次的次序進行布置，并且以交叉的次序耦合到所述阻抗匹配電路和所述第二阻抗匹配電路。

4.根據權利要求1或3所述的電源裝置，其中，所述可變電容中的每一個包括電動可變真空電容。

5.根據權利要求4所述的電源裝置，其中，所述第二控制器包括第二組反饋回路，每一個所述反饋回路耦合到相應的電動可變真空電容。