[發明專利]印花機冷卻裝置

無效

• 申請號: 201110130999.8
• 申請日: 2011-05-20
• 公開（公告）號: CN102785469A
• 公開（公告）日: 2012-11-21
• 發明（設計）人: 錢傳根
• 申請（專利權）人: 吳江中服工藝印花有限公司
• 主分類號: B41F23/00
• 分類號: B41F23/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種用于印花機的印花機冷卻裝置。

背景技術

織物花紋裝飾的重要方式之一。我國早在新石器時代就采用凸版印制陶紋，至周代始用于印章、封泥，以至春秋戰國，凸版印花已用于織物，到西漢時期已有相當高的水平，湖南馬王堆出土的印花敷彩紗就是用三塊凸版套印再彩繪結合的產物。我國的織物花紋裝飾具有悠久的歷史，如今，我國主要使用的織物花紋裝飾為轉移印花，轉移印花就是先用印刷方法將顏料印在紙上，制成轉移印花紙，再通過高溫(在紙背上加熱加壓)把顏色轉移到織物上，一般用于化纖面料，特點是顏色鮮艷，層次細膩，花型逼真，藝術性強，但該工藝目前只適用于滌綸等少數合成纖維。但是，這種傳統的印花方法卻需要將印花布的問題提到很高的程度，而傳統的印花機卻沒有設置冷卻的設備，這樣如果不進行印花布的冷卻工作就會出現印花布的花型出現變形的情況。

發明內容

為克服上述缺點，本發明的目的在于提供一種印花機冷卻裝置。

為了達到以上目的，本發明提供了刺繡機進線裝置，它包括主體、設置于主體上的支架、設置于支架上的印花布輸出機構、以及設置于本體上的印花布冷卻機構，印花布輸出機構包括設置于支架上的多個固定部、轉動設置于固定部上的第一拉伸柱、第二拉伸柱、第三拉伸柱、以及設置于支架上的輸出柱，印花布冷卻機構包括設置于本體上的內部中空的冷卻箱、設置于冷卻箱上的多個驅動部、通過所訴的驅動部設置于冷卻箱上的多個冷卻柱、通過所訴的驅動部設置于冷卻箱內部中空部位的多個冷卻管、設置于本體上的冷水進水部、以及設置于本體上的廢水出水部，冷卻箱與冷水進水部通過冷水進水管連接，冷卻箱與廢水出水部通過廢水出水管連接，印花布進入冷卻箱后依次通過冷卻管的下部、冷卻柱的上部后輸出。

優選的，支架設置有保持支架穩定的支撐柱。

優選的，冷水進水管上設置有用于調節水流大小的進水開關。

優選的，廢水出水管上設置有用于調節水流大小的排水開關。

優選的，所述輸出柱由金屬材料制成。

由于采用了上述技術方案，不難看出本發明提供了一種印花機冷卻裝置，解決了印花布完成印花后過熱導致印花布上的圖案變形的問題。

附圖說明

附圖1為根據本發明的印花機冷卻裝置的立體示意圖。

圖中：1、主體；2、支架；21、支撐柱；3、印花布輸出機構；31、固定部；32、第一拉伸柱；33、第二拉伸柱；34、第三拉伸柱；35、輸出柱；4、印花布冷卻機構；41、冷卻箱；42、驅動部；43、冷卻柱；5、冷水進水部；51、冷水進水管；511、進水開關；6、廢水出水部；61、廢水出水管；611、排水開關。

具體實施方式

下面結合附圖對本發明的較佳實施例進行詳細闡述，以使本發明的優點和特征能更易于被本領域技術人員理解，從而對本發明的保護范圍做出更為清楚明確的界定。

如附圖1所示，在本實施例中的一種刺繡機進線裝置，它包括主體1、設置于主體1上的支架2、設置于支架2上的用于保持支架2穩定的支撐柱21、設置于支架2上的印花布輸出機構3、以及設置于本體1上的印花布冷卻機構4，印花布輸出機構3包括設置于支架2上的多個固定部31、轉動設置于固定部31上的第一拉伸柱32、第二拉伸柱33、第三拉伸柱34、以及設置于支架2上的金屬材料制成的輸出柱35，印花布冷卻機構4包括設置于本體1上的內部中空的冷卻箱41、設置于冷卻箱41上的多個驅動部42、通過所訴的驅動部42設置于冷卻箱41上的多個冷卻柱43、通過所訴的驅動部42設置于冷卻箱41內部中空部位的多個冷卻管、設置于本體1上的冷水進水部5、設置于冷水進水管51上的用于調節水流大小的進水開關511、設置于本體1上的廢水出水部6、以及設置于廢水出水管61上的用于調節水流大小的排水開關611，冷卻箱41與冷水進水部5通過冷水進水管51連接，冷卻箱41與廢水出水部6通過廢水出水管61連接，印花布進入冷卻箱41后依次通過冷卻管的下部、冷卻柱43的上部后輸出。

以下詳述本發明印花機冷卻裝置的工作原理：

當印花布開始印染時，冷卻箱41內通過冷水進水部5充滿冷水，輸出柱35驅動印花布進行移動，在冷卻箱41內，印花布依次通過冷卻管的下部、冷卻柱43的上部，在冷卻箱41內通過冷水進行充分冷卻，在水溫到達一定程度時，開啟排水開關611進行換水工作。

以上實施方式只為說明本發明的技術構思及特點，其目的在于讓熟悉此項技術的人了解本發明的內容并加以實施，并不能以此限制本發明的保護范圍，凡根據本發明精神實質所做的等效變化或修飾，都應涵蓋在本發明的保護范圍內。