[發明專利]基于微孔薄膜的可調控X射線贗熱光源有效
| 申請號： | 201110129449.4 | 申請日： | 2011-05-18 |
| 公開（公告）號： | CN102325421A | 公開（公告）日： | 2012-01-18 |
| 發明（設計）人： | 喻虹;韓申生;沈夏 | 申請（專利權）人： | 中國科學院上海光學精密機械研究所 |
| 主分類號： | H05G2/00 | 分類號： | H05G2/00 |
| 代理公司： | 上海新天專利代理有限公司 31213 | 代理人： | 張澤純 |
| 地址： | 201800 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 微孔 薄膜 調控 射線 光源 | ||
1.一種基于微孔薄膜的可調控X射線贗熱光源，包括置于防輻射外殼中的單色X射線產生系統和贗熱X射線調控腔兩部分，其特征在于：
所述的單色X射線產生系統由同軸的振蕩器、白光狹縫、雙晶單色器構成，所述的贗熱X射線調控腔由同軸的可調狹縫組、微孔薄膜及其運動控制器、X射線出射窗構成；
所述的贗熱X射線調控腔的微孔薄膜固定在微孔薄膜運動控制器上，所述的贗熱X射線調控腔的微孔薄膜上具有大量隨機分布的微孔，其孔徑范圍為0.1至1微米；可調狹縫組和微孔薄膜運動控制器固定于同一底盤上；
所述的贗熱X射線調控腔的可調狹縫組包括水平方向狹縫和垂直方向狹縫，狹縫寬度調節范圍為0至20mm，狹縫組到微孔薄膜的距離隨狹縫寬度的增大而增大。
2.根據權利要求1所述的基于微孔薄膜的高亮度可調控X射線贗熱光源，其特征在于所述的單色X射線產生系統的振蕩器產生的熱X射線經自由空間傳播，在白光狹縫處被限束后進入雙晶單色器，經雙晶單色器單色化后成為單色X射線。
3.根據權利要求1所述的基于微孔薄膜的高亮度可調控X射線贗熱光源，其特征在于所述的單色X射線產生系統產生的單色X射線，經過贗熱X射線調控腔內的可調狹縫組后穿透微孔薄膜，在微孔薄膜后方衍射形成X射線散斑，其水平和垂直方向的散斑尺度δx和δy與可調狹縫組的狹縫寬度dx和dy滿足關系式：
式中，l為振蕩器到微孔薄膜的距離，z為微孔薄膜到探測處的距離。
4.根據權利要求1所述的基于微孔薄膜的高亮度可調控X射線贗熱光源，其特征在于所述的微孔薄膜運動控制器，具有平移或旋轉機構。
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