[發明專利]光子晶體分束器無效
| 申請號: | 201110128181.2 | 申請日: | 2011-05-18 |
| 公開(公告)號: | CN102789023A | 公開(公告)日: | 2012-11-21 |
| 發明(設計)人: | 王曦;楊志峰;武愛民;甘甫烷;林旭林;李浩 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海微系統與信息技術研究所 |
| 主分類號: | G02B6/122 | 分類號: | G02B6/122;G02B6/136 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務所 31219 | 代理人: | 李儀萍 |
| 地址: | 200050 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光子 晶體 分束器 | ||
技術領域
本發明涉及一種應用于光通訊、光計算、光傳感和光學測量等領域的光子晶體分束器,特別涉及一種以SOI材料的光子晶體分束器結構,屬于半導體光學技術領域。
背景技術
在過去半個世紀中,以硅為主導的微電子技術取得了舉世矚目的成就,大力推動了信息技術黃金時代的到來。硅在市場方面的壟斷地位和在工藝方面的巨大優勢,吸引著人們不斷研發小型化、集成化的硅基光子器件,以實現大規模集成的光子芯片。
絕緣體上的硅(Silicon-on-Insulator,SOI)是一種獨特的硅基材料體系,采用這種材料制作光電子器件有利于兼容成熟的CMOS工藝,實現大規模的光子集成與光電集成。但是,普通的SOI光波導尺寸較大,相應的器件很難實現高密度的集成芯片,于是,光子晶體的概念應運而生。
所謂光子晶體,指的是折射率發生波長尺度的周期性改變,具有一定光子帶隙(PBG)的材料結構。光子晶體的出現,為將來的光電和光子集成芯片開辟了一條新的道路。比如,光子晶體波導通過帶隙的限制效應而導光,由于波導寬度在波長量級,就能使波導器件的尺寸大為降低。
產生完全光子帶隙的3-D光子晶體在制作上還有一定困難,因此,二維光子晶體平板是目前構造光子晶體器件的最優選擇。在平板平面內,通過光子禁帶產生光限制,而在垂直于平板波導的方向上,通過折射率導引產生光限制。如果是周期性的空氣孔分布于介質材料中,將對TE模產生較大的光子帶隙,如果是周期性的介質柱分布于空氣中,將對TM模產生較大的光子帶隙。
Y型光功率分束器是光學和光電領域中的基本器件。但是,目前的波導型Y分束器大多長達幾千微米,光纖型的Y分束器更是長達幾個毫米,這種大尺寸的器件將無法應用于將來大規模的集成光子芯片中。
光子晶體的出現為器件小型化提供了一條新途徑。然而,普通結構的光子晶體Y分束器一般在輸入、輸出波導的交接區引入缺陷小孔(或缺陷柱)來提高分束效率、減小插入損耗。圖1為傳統光子晶體Y分束器的結構示意圖。如圖1所示,該結構需要在輸入波導和輸出波導的交接處引入直徑較小的硅柱(即缺陷柱),以降低器件損耗、提高輸出效率,這就需要比較精確的曝光工藝。這種結構的最大不足是制作容差小,缺陷孔或缺陷柱的直徑往往只有幾十納米,其位置也需要精確確定,因而給實際制作帶來很大困難。
發明內容
本發明要解決的技術問題是提供一種光子晶體分束器,用于克服現有的光子晶體Y分束器需要比較精確的曝光工藝,制作容差小等問題。
為解決上述技術問題,本發明采用如下技術方案:一種光子晶體分束器(200),其特征在于:該光子晶體分束器包括SOI襯底(100)、在SOI襯底的頂層硅(103)上刻蝕形成的呈正方晶格排列的空氣孔區域(220)以及將該空氣孔區域(220)與外部器件連接的SOI條形波導(210);所述SOI襯底(100)包括襯底硅層(101)、位于襯底硅層(101)上的二氧化硅埋層(102)以及位于該二氧化硅埋層(102)上的頂層硅(103);所述空氣孔區域的空氣孔(221)的深度(h)等于SOI頂層硅(103)的厚度(d)。
進一步的,所述SOI條形輸入波導的高度H與空氣孔的深度h相等。
進一步的,所述頂層硅(103)的厚度d與所述空氣孔的晶格常數a的關系為
0.5a≤h≤0.6a,所述二氧化硅埋層(102)的厚度至少為2.64a。
進一步的,所述空氣孔的半徑r與晶格常數a的關系為r≥0.2a。
進一步的,所述空氣孔的半徑r與晶格常數a的關系為0.3a≤r≤0.4a。
進一步的,所述頂層硅(103)得厚度為230nm,所述二氧化硅埋層厚度為1μm,所述空氣孔正方晶格排列的晶格常數為380nm,所述空氣孔半徑為140nm。
進一步的,所述SOI條形輸入波導的寬度K至少為所述空氣孔的晶格常數a的倍。
進一步的,所述空氣孔采用電子束曝光、電感耦合等離子體工藝刻蝕或FIB刻蝕形成。
本發明還包括一種光子晶體分束器的制備方法,其包括以下步驟:
1)制備SOI襯底;
2)在上述SOI襯底的頂層硅(103)上刻蝕形成的呈正方晶格排列的空氣孔區域(220)以及將該空氣孔區域(220)與外部器件連接的SOI條形波導(210);所述空氣孔區域的空氣孔(221)的深度h為等于SOI頂層硅(103)的厚度d,所述SOI條形波導邊緣至所述空氣孔區域(220)邊界的距離分別為L1、L2,其中L1、L2大于0。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院上海微系統與信息技術研究所,未經中國科學院上海微系統與信息技術研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110128181.2/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:太陽能制鏡線末端傳輸系統
- 下一篇:一種電能計量裝置檢查儀





