[發(fā)明專利]具有氧化物隧穿結(jié)的太陽(yáng)能電池無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110120153.6 | 申請(qǐng)日: | 2011-05-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102263157A | 公開(公告)日: | 2011-11-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | J·B·衡;游晨濤;徐征;傅建明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 美國(guó)喜瑞能源公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/18 | 分類號(hào): | H01L31/18;H01L31/062;H01L31/0224 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 王茂華 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 氧化物 隧穿結(jié) 太陽(yáng)能電池 | ||
1.一種基于隧穿結(jié)的太陽(yáng)能電池的制造方法,包括:
獲取用于太陽(yáng)能電池的基極層;
形成與所述基極層相鄰的量子隧穿勢(shì)壘(QTB)層;
形成發(fā)射極;
形成表面電場(chǎng)層;
形成前側(cè)電極;以及
形成背側(cè)電極。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法,其中所述基極層包括以下項(xiàng)中至少一項(xiàng):
單晶硅晶圓;以及
外延生長(zhǎng)晶態(tài)Si(c-Si)薄膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求2的方法,其中調(diào)節(jié)所述外延生長(zhǎng)c-Si薄膜的摻雜分布。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的方法,其中所述基極層包括基本上位于所述薄膜中部的本征Si薄層,并且其中所述本征Si層的厚度位于1nm和10nm之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的方法,其中所述QTB層包括以下項(xiàng)中至少一項(xiàng):
氧化硅(SiOx);
加氫SiOx;
氮化硅(SiNx);
加氫SiNx;
氧化鋁(AlOx);
氮氧化硅(SiON);以及
加氫SiON。
6.根據(jù)權(quán)利要求1的方法,其中所述QTB層的厚度位于1埃和50埃之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的方法,其中使用以下技術(shù)中至少一項(xiàng)來(lái)形成所述QTB層:
熱氧化;
原子層沉積;
濕式氧化或蒸汽氧化;
低壓自由基氧化;以及
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1的方法,還包括在所述發(fā)射極、所述表面電場(chǎng)層或這兩者上形成透明導(dǎo)電氧化物(TCO)層。
9.根據(jù)權(quán)利要求1的方法,其中所述發(fā)射極和/或所述表面電場(chǎng)層包括無(wú)定形Si(a-Si)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9的方法,其中所述發(fā)射極包括摻碳a-Si。
11.根據(jù)權(quán)利要求9的方法,其中所述發(fā)射極和/或所述表面電場(chǎng)層包括未摻雜a-Si。
12.根據(jù)權(quán)利要求9的方法,其中所述發(fā)射極和/或所述表面電場(chǎng)層包括緩變摻雜無(wú)定形Si(a-Si)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12的方法,其中所述緩變摻雜a-Si的摻雜濃度在1×1015/cm3至5×1020/cm3之間。
14.根據(jù)權(quán)利要求12的方法,其中用于所述緩變摻雜a-Si的n型摻雜劑包括磷,并且其中用于緩變摻雜a-Si的p型摻雜劑包括硼。
15.根據(jù)權(quán)利要求1的方法,其中所述基極層的施主(n型)或受主(p型)摻雜濃度在1×1014/cm3至1×1018/cm3之間。
16.根據(jù)權(quán)利要求15的方法,其中所述發(fā)射極的摻雜類型與所述基極層的摻雜類型相反,并且其中所述表面電場(chǎng)層的摻雜類型與所述基極層的摻雜類型相同。
17.根據(jù)權(quán)利要求16的方法,其中在形成于所述基極層的面對(duì)入射光的前側(cè)上的QTB層上形成所述發(fā)射極,并且其中在形成于所述基極層的背側(cè)上的QTB層上形成所述表面電場(chǎng)層以用作背表面電場(chǎng)(BSF)。
18.根據(jù)權(quán)利要求16的方法,其中在形成于所述基極層的背離入射光的背側(cè)上的QTB層上形成所述發(fā)射極,并且其中在形成于所述基極層的前側(cè)上的QTB層上形成所述表面電場(chǎng)層以用作前表面電場(chǎng)(FSF)。
19.一種基于隧穿結(jié)的太陽(yáng)能電池,包括:
基極層;
與所述基極層相鄰的量子隧穿勢(shì)壘(QTB)層;
發(fā)射極;
表面電場(chǎng)層;
前側(cè)電極;以及
背側(cè)電極。
20.根據(jù)權(quán)利要求19的太陽(yáng)能電池,其中所述基極層包括以下項(xiàng)中至少一項(xiàng):
單晶硅晶圓;以及
外延生長(zhǎng)晶態(tài)Si(c-Si)薄膜。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于美國(guó)喜瑞能源公司,未經(jīng)美國(guó)喜瑞能源公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
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H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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