[發(fā)明專利]鍍膜件及其制備方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110106724.0
• 申請日: 2011-04-27
• 公開（公告）號: CN102758184A
• 公開（公告）日: 2012-10-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;黃嘉
• 申請（專利權(quán)）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/06;B32B9/04;B32B15/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種鍍膜件，其包括基材及形成于基材表面的鍍層，其特征在于：該鍍層為M摻雜的二氧化鈦層，其中M為鎳、鐵及鉻中的一種。

2.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件，其特征在于：該基材的材質(zhì)為玻璃或不銹鋼。

3.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件，其特征在于：該鍍層中摻雜的M與鈦的原子比為2%~8%。

4.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件，其特征在于：該鍍層為光致變色層。

5.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件，其特征在于：該鍍層采用濺射法形成，其厚度為200~500nm。

6.一種鍍膜件的制備方法，其包括如下步：

提供基材；

采用粉末冶金法制備一合金靶，該合金靶中含有金屬M(fèi)和金屬鈦，其中金屬M(fèi)為鎳、鐵及鉻中的一種；

采用濺射法，并使用上述步驟制備的合金靶，在該基材的表面形成一鍍層，該鍍層為M摻雜的二氧化鈦層。

7.如權(quán)利要求6所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于：該基材的材質(zhì)為玻璃或不銹鋼。

8.如權(quán)利要求6所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于：所述制備合金靶的步驟的工藝參數(shù)為：以金屬M(fèi)粉體及金屬鈦粉體為原料，將金屬M(fèi)粉體與金屬鈦粉體按原子比為5~10%的比例混合均勻獲得一混合物；采用熱壓成型法將混合物制成一坯體，成型溫度為100~300℃，壓力為30~60MPa；燒結(jié)該坯體，燒結(jié)溫度為1300~1800℃，燒結(jié)時(shí)間為30~60min。

9.如權(quán)利要求8所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于：金屬M(fèi)粉體的純度為99.99%，粒度為25~50μm，金屬鈦粉體的純度為99.99%，粒度為25~50μm。

10.如權(quán)利要求6所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于：濺射形成所述鍍層的步驟的工藝參數(shù)為：基材的溫度為100~200℃，以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為300~500sccm，以氧氣為反應(yīng)氣體，氧氣的流量為50~200sccm，合金靶的功率為3~5kw，施加于基材的偏壓為-100~-200V，鍍膜時(shí)間為30~90min。