[發明專利]制造氧化物薄膜的方法

無效

• 申請號: 201110103211.4
• 申請日: 2011-04-18
• 公開（公告）號: CN102230172A
• 公開（公告）日: 2011-11-02
• 發明（設計）人: 吳季珍;吳偉庭;王卿昧;陳貞夙
• 申請（專利權）人: 吳季珍
• 主分類號: C23C24/00
• 分類號: C23C24/00;C23C18/12
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司 11018
• 代理人: 陳萬青;王珍仙

1.一種制造氧化物薄膜的方法，包括：

制備涂料，所述涂料包括第一前驅物、燃料以及溶劑；

涂布所述涂料于基材上；以及

對所述基材上的涂料施予退火步驟，使所述涂料轉化為氧化物薄膜。

2.如權利要求1所述的制造氧化物薄膜的方法，其中所述第一前驅物為含第一金屬的材料，所述第一金屬為鎢、鎳、鈦、鋅、銅或銀。

3.如權利要求2所述的制造氧化物薄膜的方法，其中所述第一前驅物為所述第一金屬的粉末、所述第一金屬的硝酸鹽、所述第一金屬的硫酸鹽、所述第一金屬的醋酸鹽或此等的組合。

4.如權利要求1所述的制造氧化物薄膜的方法，其中所述燃料為硫脲、尿素、甘氨酸、檸檬酸或此等的組合。

5.如權利要求1所述的制造氧化物薄膜的方法，其中所述溶劑為水、酒精、雙氧水或此等的組合。

6.如權利要求2或3所述的制造氧化物薄膜的方法，其中所述涂料進一步包括第二前驅物，以摻雜至所述氧化物薄膜。

7.如權利要求6所述的制造氧化物薄膜的方法，其中所述第二前驅物為含第二金屬的材料，所述第二金屬為鎢、鎳、鈦、鋅、銅或銀，但與所述第一金屬不同。

8.如權利要求1所述的制造氧化物薄膜的方法，其中所述退火步驟為加熱所述基材上的涂料至300-550℃。

9.如權利要求8所述的制造氧化物薄膜的方法，其中所述退火步驟為加熱所述基材上的涂料至350-450℃。

10.如權利要求1所述的制造氧化物薄膜的方法，其中所述退火步驟為加熱所述基材上的涂料至300-550℃，保持溫度10分鐘-6小時。

11.如權利要求10所述的制造氧化物薄膜的方法，其中所述退火步驟為加熱所述基材上的涂料至300-550℃，保持溫度10分鐘-1小時。

12.如權利要求1所述的制造氧化物薄膜的方法，其中所述第一前驅物及所述燃料的重量比為1∶0.02-22。

13.如權利要求1所述的制造氧化物薄膜的方法，其中所述燃料及所述溶劑的重量比為1∶0.01-100。

14.如權利要求7所述的制造氧化物薄膜的方法，其中所述第二前驅物為第二金屬的粉末、第二金屬的硝酸鹽、第二金屬的硫酸鹽、第二金屬的醋酸鹽或此等的組合。

15.如權利要求3所述的制造氧化物薄膜的方法，其中所述第一前驅物為鎢粉末、硝酸鎢、硫酸鎢、醋酸鎢或此等的組合。

16.如權利要求3所述的制造氧化物薄膜的方法，其中所述第一前驅物為鎳粉末、硝酸鎳、硫酸鎳、醋酸鎳或此等的組合。