[發明專利]風管流量調節結構無效
| 申請號: | 201110102839.2 | 申請日: | 2011-04-22 |
| 公開(公告)號: | CN102747342A | 公開(公告)日: | 2012-10-24 |
| 發明(設計)人: | 沈孟岳;張富鈞 | 申請(專利權)人: | 友達光電股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455 |
| 代理公司: | 上海波拓知識產權代理有限公司 31264 | 代理人: | 楊波 |
| 地址: | 中國臺灣新竹科*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 風管 流量 調節 結構 | ||
技術領域
本發明涉及一種調節結構,尤其涉及一種風管流量調節結構。
背景技術
化學氣相沉積(Chemical?vapor?deposition,CVD)是反應物質在氣態條件下發生化學反應,生成固態物質沉積在加熱的固態基體表面,進而制得固體材料的工藝技術。化學氣相沉積技術廣泛應用于TFT-LCD產業中,化學氣相沉積技術可在不改變基體材料的成份和不削弱基體材料的強度的條件下,賦予材料表面特殊的性能,滿足工程實際中對材料的要求。然而,在化學氣相沉積制程中,往往會產生大量的粉塵,含有粉塵的氣體需要通過風管傳輸。
圖1繪示為一種現有的風管流量調節結構的示意圖。請參見圖1,現有的風管流量調節結構10包括風管12、葉片13及把手14。風管為圓形管體,葉片13為圓形的片體,其配置于風管12內部。葉片13的一端通過轉軸(圖未示)與風管12可轉動連接,另一端通過轉軸與風管12外側的把手14固定連接,轉動把手14可控制葉片13繞著軸線A轉動。當葉片13垂直于風管12的軸線時,葉片13可封住風管12;當葉片13平行于風管12的軸線時,風管12內的氣體可順暢流動,流量較大。通過轉動把手14可控制葉片13在垂直于風管12軸線的位置與平行于風管12軸線的位置之間轉動,從而控制風管12內氣體的流量。然而,氣體中的粉塵較容易造成與葉片13連接的轉軸卡死或斷裂,影響風管流量調節結構10的正常使用。另外,由于葉片13配置于風管12內,難以拆卸,風管12內氣體中的粉塵容易堆積在葉片13上,造成風管12堵塞,氣體流量調節效果不佳。
發明內容
本發明提供一種風管流量調節結構,可調節風管內氣體流量的大小,且不容易堵塞。
本發明提出一種風管流量調節結構,其包括第一風管、第二風管、調節座及擋板組件。調節座連接于第一風管和第二風管之間,并與第一風管和第二風管連通。調節座具有至少一個流量調節口,擋板組件用于可移動地插設于至少一個流量調節口內。
在本發明的一實施例中,上述的調節座包括本體和至少一個蓋板。本體連接于第一風管和第二風管之間,至少一個流量調節口開設于本體上。至少一個蓋板可拆卸地蓋設于至少一個流量調節口上。
在本發明的一實施例中,上述的至少一個蓋板上開設有多個螺紋孔,本體上開設有多個螺紋孔,通過蓋板上的螺紋孔、本體上的螺紋孔及連接件,至少一個蓋板連接于本體上。
在本發明的一實施例中,上述的本體的至少一個側板向外延伸有凸翼,本體上的這些螺紋孔開設于凸翼上。
在本發明的一實施例中,上述的擋板組件與至少一個流量調節口可緊密配合。
在本發明的一實施例中,上述的擋板組件包括擋板、推動連桿及推動把手,擋板用于與至少一個流量調節口配合,推動連桿固定連接于擋板與推動把手之間。
本發明的風管流量調節結構的結構簡單,可通過擋板組件與調節座的配合調節風管內氣體流量的大小,同時,擋板組件可從調節座上取下,以方便進行清潔,避免氣體中的粉塵將風管流量調節結構堵塞。
上述說明僅是本發明技術方案的概述,為了能夠更清楚了解本發明的技術手段,而可依照說明書的內容予以實施,并且為了讓本發明的上述和其它目的、特征和優點能夠更明顯易懂,以下特舉較佳實施例,并配合附圖,詳細說明如下。
附圖說明
圖1繪示為一種現有的風管流量調節結構的示意圖。
圖2繪示為本發明的風管流量調節結構的示意圖。
圖3繪示為圖2的風管流量調節結構的調節座的示意圖。
具體實施方式
為更進一步闡述本發明為達成預定發明目的所采取的技術手段及功效,以下結合附圖及較佳實施例,對依據本發明提出的風管流量調節結構的具體實施方式、結構、特征及功效,詳細說明如后。
圖2繪示為本發明的風管流量調節結構的示意圖。請參見圖2,本發明的風管流量調節結構20包括第一風管22、第二風管23、調節座24及擋板組件25。調節座24連接于第一風管22和第二風管23之間,并與第一風管22和第二風管23連通。擋板組件25用于可移動地插設于調節座24內。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





