[發明專利]束流傳輸系統及其傳輸方法

有效

• 申請號: 201110102596.2
• 申請日: 2011-04-22
• 公開（公告）號: CN102751155A
• 公開（公告）日: 2012-10-24
• 發明（設計）人: 錢鋒
• 申請（專利權）人: 上海凱世通半導體有限公司
• 主分類號: H01J37/317
• 分類號: H01J37/317;H01J37/147
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 薛琦;朱水平

1.一種束流傳輸系統，其包括一束流出射裝置、一作為束流傳輸終點的目標工件以及相互平行地設置于束流傳輸路徑兩側的一第一桿狀四極磁鐵與一第二桿狀四極磁鐵，其特征在于，所述第一桿狀四極磁鐵和第二桿狀四極磁鐵分別具有一鐵芯，其中沿所述第一桿狀四極磁鐵的鐵芯和第二桿狀四極磁鐵的鐵芯的長度方向，分別設置一個或多個相互獨立的線圈，其中分別設置于所述第一桿狀四極磁鐵與所述第二桿狀四極磁鐵的鐵芯的相同位置上的線圈相互對應，并且所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵的各個線圈的電流值均是可調的。

2.如權利要求1所述的束流傳輸系統，其特征在于，所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵的各個線圈的電流方向均是可調的。

3.如權利要求1或2所述的束流傳輸系統，其特征在于，所述第一桿狀四極磁鐵和第二桿狀四極磁鐵的鐵芯長度方向與束流傳輸路徑方向垂直。

4.如權利要求1所述的束流傳輸系統，其特征在于，所述束流出射裝置為一離子束源。

5.如權利要求4所述的束流傳輸系統，其特征在于，所述目標工件為一晶圓。

6.一種如權利要求2所述的束流傳輸系統的束流傳輸方法，其特征在于包括以下步驟：

S₁₀₁、使所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵的線圈的電流方向相同，所述束流出射裝置發射束流；

S₁₀₂、通過分別調整所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵上各對相互對應線圈的電流值的和來調節通過所述相互對應線圈所在平面的束流相對于束流傳輸路徑的偏轉角度；

S₁₀₃、確定并保持所述相互對應線圈的電流值的和，然后通過分別調節各對相互對應線圈中位于所述第一桿狀四極磁鐵的線圈和位于第二桿狀四極磁鐵的線圈的電流值的差來調節通過所述相互對應線圈所在平面的束流的聚焦以及發散；

S₁₀₄、將經過偏轉、聚焦或發散的束流注入目標工件。

7.如權利要求6所述的束流傳輸方法，其特征在于，所述偏轉角度與所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵上各對相互對應線圈的電流值的和成正比。

8.如權利要求6或7所述的束流傳輸方法，其特征在于，所述聚焦或發散的角度與各對所述相互對應線圈中位于所述第一桿狀四極磁鐵的線圈和位于第二桿狀四極磁鐵的線圈的電流值的差成正比。

9.一種如權利要求2所述的束流傳輸系統的束流傳輸方法，其特征在于包括以下步驟：

S₂₀₁、使所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵的線圈的電流方向相反，所述束流出射裝置發射束流；

S₂₀₂、通過分別調整所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵上各對相互對應線圈的電流值的和來調節通過所述相互對應線圈所在平面的束流的聚焦以及發散；

S₂₀₃、確定并保持所述相互對應線圈的電流值的和，然后通過分別調節各對相互對應線圈中位于所述第一桿狀四極磁鐵的線圈和位于第二桿狀四極磁鐵的線圈的電流值的差來調節通過所述相互對應線圈所在平面的束流相對于束流傳輸路徑的偏轉角度；

S₂₀₄、將經過偏轉、聚焦或發散的束流注入目標工件。

10.如權利要求9所述的束流傳輸方法，其特征在于，所述聚焦或發散的角度與所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵上各對相互對應線圈的電流值的和成正比。

11.如權利要求9或10所述的束流傳輸方法，其特征在于，所述偏轉角度與各對所述相互對應線圈中位于所述第一桿狀四極磁鐵的線圈和位于第二桿狀四極磁鐵的線圈的電流值的差成正比。