[發明專利]離子注入實時檢測和控制裝置無效
| 申請號： | 201110102572.7 | 申請日： | 2011-04-22 |
| 公開（公告）號： | CN102751154A | 公開（公告）日： | 2012-10-24 |
| 發明（設計）人： | 洪俊華 | 申請（專利權）人： | 上海凱世通半導體有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/304 | 分類號： | H01J37/304 |
| 代理公司： | 上海智信專利代理有限公司 31002 | 代理人： | 薛琦;朱水平 |
| 地址： | 201203 上海市浦東新*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 離子 注入 實時 檢測 控制 裝置 | ||
1.一種離子注入實時檢測和控制裝置，其包括一束流傳輸系統、一電子槍和一工件，其特征在于，所述離子注入實時檢測和控制裝置還包括：
一電量測量模塊，用于測量所述電子槍發射并進入所述工件的電量；以及
一掃描控制模塊，用于根據所述電量測量模塊測量的電量，控制工件相對離子束流的移動和/或控制所述束流傳輸系統生成的離子束流，進而控制注入劑量和注入均勻性。
2.如權利要求1所述的離子注入實時檢測和控制裝置，其特征在于，所述電量測量模塊為一電流表。
3.如權利要求1所述的離子注入實時檢測和控制裝置，其特征在于，所述電子槍為PEF。
4.如權利要求1所述的離子注入實時檢測和控制裝置，其特征在于，所述工件為晶圓。
5.如權利要求1所述的離子注入實時檢測和控制裝置，其特征在于，所述掃描控制模塊用于調節工件相對離子束流掃描的速度和幅度和/或所述束流傳輸系統生成的束流的束流角度分布和束流強度分布，進而控制注入劑量和注入均勻性。
6.一種離子注入實時檢測和控制裝置，其包括一束流傳輸系統和一電子槍，其特征在于，所述離子注入實時檢測和控制裝置還包括：
一探針，具有一偏置電壓并用于接收所述電子槍產生的部分電子；
一電量測量模塊，用于測量流入所述探針的電量；以及
一掃描控制模塊，用于根據所述電量測量模塊測量的電量控制工件相對離子束流掃描的移動和/或控制所述束流傳輸系統生成的離子束流，進而控制注入劑量和注入均勻性。
7.如權利要求6所述的離子注入實時檢測和控制裝置，其特征在于，所述電量測量模塊為一電流表。
8.如權利要求6所述的離子注入實時檢測和控制裝置，其特征在于，所述電子槍為PEF。
9.如權利要求6所述的離子注入實時檢測和控制裝置，其特征在于，所述探針臨近所述電子槍的電子發射口。
10.如權利要求6所述的離子注入實時檢測和控制裝置，其特征在于，所述掃描控制模塊用于調節工件相對離子束流掃描的速度和幅度和/或所述束流傳輸系統生成的束流的束流角度分布和束流強度分布，進而控制注入劑量和注入均勻性。
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