[發明專利]彩色濾光片和彩色濾光片的制造方法

無效

• 申請號: 201110098346.6
• 申請日: 2011-04-19
• 公開（公告）號: CN102707352A
• 公開（公告）日: 2012-10-03
• 發明（設計）人: 舒適;陸金波;薛建設;趙吉生;李琳
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20;G02F1/1335;G03F7/20;G03F1/32
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;安利霞

1.一種彩色濾光片，其特征在于，包括：

基板；

位于所述基板上的擋墻型黑矩陣層，所述擋墻型黑矩陣層限定次像素區域；所述擋墻型黑矩陣層包括遮光層和位于所述遮光層上的擋墻層；

位于所述次像素區域的顏色層。

2.根據權利要求1所述的彩色濾光片，其特征在于，所述擋墻型黑矩陣層的材料為含黑顏料的正型光刻膠。

3.根據權利要求1所述的彩色濾光片，其特征在于，所述擋墻層的截面形狀為梯形、矩形或三角形。

4.根據權利要求1所述的彩色濾光片，其特征在于，所述擋墻層的邊緣的范圍不超出所述遮光層的邊緣的范圍。

5.根據權利要求1所述的彩色濾光片，其特征在于，所述擋墻層的寬度不超出所述遮光層的寬度。

6.根據權利要求1-5任一項所述的彩色濾光片，其特征在于，所述擋墻型黑矩陣層由一次曝光工藝形成。

7.一種彩色濾光片的制造方法，其特征在于，包括：

提供一基板；

在所述基板上設置一層黑矩陣材料；

對所述黑矩陣材料進行曝光，形成擋墻型黑矩陣層。

8.根據權利要求7所述的彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述黑矩陣材料為含黑顏料的正型光刻膠。

9.根據權利要求8所述的彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述對所述黑矩陣材料進行曝光，形成擋墻型黑矩陣層的步驟包括：

采用帶半透膜的掩模板對所述光刻膠進行半掩膜曝光，所述掩模板包括完全曝光區、未曝光區以及灰度曝光區；

通過顯影工藝，去掉被曝光的所述光刻膠，形成擋墻層、遮光層以及次像素區域，所述擋墻層對應所述未曝光區，所述遮光層對應所述灰度曝光區。

10.根據權利要求9所述的彩色濾光片的制造方法，其特征在于，還包括：通過噴墨工藝，將彩色墨水分別噴入所述次像素區內，形成多個顏色層。

11.根據權利要求10所述的彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述通過噴墨工藝，將彩色墨水分別噴入所述次像素區內，形成多個顏色層的步驟之前，還包括：

通過灰化工藝，處理所述擋墻層和所述遮光層，使得所述擋墻層和所述遮光層變薄為預定厚度。

12.根據權利要求9所述的彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述掩模板中，所述未曝光區的周圍設置有所述灰度曝光區，使得所述擋墻層的邊緣的范圍不超過所述遮光層的邊緣的范圍。

13.根據權利要求9所述的彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述掩模板中，所述灰度曝光區的灰度值預先設置，使得所述擋墻層的截面形狀為梯形、矩形或三角形。