[發明專利]用于控制修整器的氣動控制回路和修整設備

有效

• 申請號: 201110098287.2
• 申請日: 2011-04-19
• 公開（公告）號: CN102225534A
• 公開（公告）日: 2011-10-26
• 發明（設計）人: 路新春;沈攀
• 申請（專利權）人: 清華大學
• 主分類號: B24B53/12
• 分類號: B24B53/12
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 宋合成

技術領域

本發明涉及晶片拋光技術領域，尤其是涉及一種用于控制修整器的氣動控制回路和具有其的修整設備。

背景技術

在化學機械拋光設備中，拋光墊在使用一段時間后，隨著自身的磨損以及磨屑對拋光墊表面的微孔的填充，拋光墊的表面因形成釉化層而變得平滑，這使得拋光墊存儲、輸送磨料的能力降低，導致材料去除率和拋光表面質量下降。

因此，在現有技術中，通常采用修整頭對拋光墊進行修整，即通過修整頭上的金剛石盤對拋光墊進行適當的修整，可以去除釉化層和拋光墊上的磨屑，提高拋光墊的粗糙度和使用壽命，降低成本，并保證拋光的一致性。

修整頭帶動金剛石盤下壓并與拋光墊接觸，并帶動金剛石盤旋轉，金剛石盤在與拋光墊接觸并旋轉的過程中對拋光墊進行修整。對拋光墊的修整不是一直進行的，而是選擇性進行，當拋光墊使用到一定的程度時，才對拋光墊進行修整。修整頭不是一直與拋光墊保持接觸狀態，而是修整時才與拋光墊接觸，所以修整頭不僅應該具有伸縮運動的功能，與拋光墊保持接觸與脫離，而且還應該具有與拋光墊接觸時，下壓力可控的功能。

發明內容

本發明旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一。

為此，本發明的一個目的在于提出一種結構簡單、便于控制的用于控制修整器的氣動控制回路。

本發明的另一個目的在于提出一種具有所述氣動控制回路的修整系統。

為了實現上述目的，根據本發明第一方面的實施例提出一種用于控制修整器的氣動控制回路，所述用于控制修整器的氣動控制回路包括正壓控制支路，所述正壓控制支路包括：減壓閥，所述減壓閥與氣源相連；和第一控制閥，所述第一控制閥與所述減壓閥相連用于選擇性地斷開和接通所述正壓控制支路；真空支路，所述真空支路包括真空產生裝置；以及切換閥，所述切換閥分別與所述正壓控制支路和所述真空支路相連用于選擇性地將所述正壓控制支路和所述真空支路中的一個支路與所述修整器連通。

根據本發明實施例的用于控制修整器的氣動控制回路通過設置所述正壓控制支路來使所述修整器的修整頭與拋光墊接觸并對所述拋光墊進行修整，并通過設置所述真空支路，從而在修整結束后使所述修整器的修整頭與所述拋光墊脫離。根據本發明實施例的用于控制修整器的氣動控制回路通過僅設置少量的元件，便實現了對所述修整器的修整頭的控制，因此具有結構簡單、便于控制的優點。

另外，根據本發明實施例的用于控制修整器的氣動控制回路可以具有如下附加的技術特征：

根據本發明的一個實施例，所述真空產生裝置為真空發生器，所述真空發生器與所述氣源相連，所述真空支路還包括第二控制閥，所述第二控制閥與所述真空發生器相連用于選擇性地斷開和接通所述真空支路。

根據本發明的一個實施例，還包括消聲器，所述消聲器與所述真空發生器相連用于減小所述真空發生器的噪聲。

根據本發明的一個實施例，所述第二控制閥為兩位兩通閥或兩位三通閥且連接在所述真空發生器與所述氣源之間。

根據本發明的一個實施例，所述減壓閥為手動減壓閥或電氣比例閥。

根據本發明的一個實施例，所述第一控制閥連接在所述減壓閥與所述氣源之間。

根據本發明的一個實施例，所述第一控制閥為兩位兩通閥或兩位三通閥。

根據本發明的一個實施例，所述切換閥為兩位三通閥或三位三通閥。

根據本發明的一個實施例，所述真空產生裝置為真空泵。

根據本發明第二方面的實施例提出一種修整設備，所述修整設備包括：修整器，所述修整器具有修整頭，所述修整頭內限定有密閉腔；和氣動控制回路，所述氣動控制回路為根據本發明第一方面所述的氣動控制回路，其中所述氣動控制回路的所述切換閥選擇性地將所述氣動控制回路的正壓控制支路與所述真空支路中的一個支路與所述修整頭的密閉空間連通以驅動所述修整頭沿與所述一個支路相應的方向移動。

根據本發明實施例的修整設備，通過設置氣動控制回路來對所述修整器進行控制以完成對所述拋光墊的修整。根據本發明實施例的修整設備具有結構簡單、便于控制的優點。

本發明的附加方面和優點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發明的實踐了解到。

附圖說明

本發明的上述和/或附加的方面和優點從結合下面附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中：

圖1是根據本發明實施例的用于控制修整器的氣動控制回路的結構示意圖；

圖2是根據本發明實施例的用于控制修整器的氣動控制回路的結構示意圖；和