[發明專利]陽離子聚電解質和聚吡咯復合高分子電阻型濕敏元件及其制作方法

有效

• 申請號: 201110097980.8
• 申請日: 2011-04-19
• 公開（公告）號: CN102749359A
• 公開（公告）日: 2012-10-24
• 發明（設計）人: 李揚;鄧超;楊慕杰
• 申請（專利權）人: 浙江大學
• 主分類號: G01N27/04
• 分類號: G01N27/04
• 代理公司: 杭州求是專利事務所有限公司 33200
• 代理人: 韓介梅

1.陽離子聚電解質和聚吡咯復合的高分子電阻型濕敏元件，其特征在于：它具有陶瓷基體⑴，在陶瓷基體表面光刻和蒸發有多對叉指金電極⑵，在叉指金電極上連接有引線⑷，在陶瓷基體和叉指金電極表面涂覆有濕敏薄膜⑶，濕敏薄膜為交聯季銨化聚4-乙烯基吡啶和聚離子液體摻雜的聚吡咯復合高分子濕敏材料。

2.根據權利要求1所述的陽離子聚電解質和聚吡咯復合高分子電阻型濕敏元件，其特征在于：陶瓷基體表面的叉指金電極的叉指寬度為20～200?μm，叉指間隙為20～200?μm。

3.?制作權利要求1所述的陽離子聚電解質和聚吡咯復合高分子電阻型濕敏元件的方法，其特征在于包括以下步驟：

1）?清洗表面光刻和蒸發有叉指金電極的陶瓷基體，烘干備用；

2）?將1.0-5.0克溴化1-乙烯基-3-乙基咪唑和0.01-0.05克偶氮二異丁腈加入10-50毫升氯仿中，室溫攪拌一小時后，升溫至50-100℃反應1-5小時，將產物冷卻至室溫，棄去溶劑，用甲醇溶解，然后在丙酮中沉淀，抽濾，放入真空烘箱中干燥直至恒重，得到聚溴化1-乙烯基-3-乙基咪唑；

3）?將0.1-0.5克步驟2）制得的聚溴化1-乙烯基-3-乙基咪唑和0.1-0.5克吡咯單體依次加入10-50?毫升去離子水中，攪拌均勻，超聲處理條件下，在10-30分鐘內滴加0.2-0.6克/毫升的過硫酸銨溶液20-60毫升，繼續在超聲處理條件下室溫反應1-5小時，所得產物用過量對甲苯磺酸溶液沉淀，離心分離，真空烘箱中干燥直至恒重，得到聚離子液體摻雜的聚吡咯；

4）將50-100毫克步驟3）制得的聚離子液體摻雜的聚吡咯用1-5毫升?N,N-二甲基甲酰胺溶解，超聲處理一小時使其充分分散，然后依次加入50-100?毫克聚4-乙烯基吡啶和0.1-0.5毫升1,4-二溴丁烷，在10-50℃下攪拌陳化6-24小時，制得浸涂液；

5）將步驟1）的陶瓷基底叉指金電極浸漬于步驟4）制得的浸涂液中1-5分鐘，提拉取出后，在50-150℃交聯季胺化10-20小時，得到陽離子聚電解質和聚吡咯復合高分子電阻型濕敏元件。