[發(fā)明專利]一種基于數(shù)字掩模光刻技術(shù)制作微透鏡陣列的方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110096730.2
• 申請(qǐng)日: 2011-04-18
• 公開（公告）號(hào): CN102141639A
• 公開（公告）日: 2011-08-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 高益慶;付裕芳;羅寧寧;龔勇清;王平奇;雷剛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南昌航空大學(xué)
• 主分類號(hào): G02B3/00
• 分類號(hào): G02B3/00;G03F7/20
• 代理公司: 南昌洪達(dá)專利事務(wù)所 36111
• 代理人: 劉凌峰

1.?一種基于數(shù)字掩模光刻技術(shù)制作微透鏡陣列的方法，其特征是制作方法為：通過計(jì)算機(jī)設(shè)計(jì)并控制微透鏡陣列掩模圖形的排列方式，自動(dòng)控制微透鏡陣列中各微透鏡數(shù)字掩模圖形在曝光平面上繞各自對(duì)稱軸同時(shí)旋轉(zhuǎn)；最后采用實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)的曝光方式，在光刻基板上一次性曝光形成微透鏡陣列浮雕面型，從而得到微透鏡陣列。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于數(shù)字掩模光刻技術(shù)制作微透鏡陣列的方法，其特征是根據(jù)光刻基板材料和有效占空比的需要，通過計(jì)算機(jī)設(shè)計(jì)并控制微透鏡陣列的排列方式，合理地設(shè)計(jì)單個(gè)微透鏡之間的距離。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于數(shù)字掩模光刻技術(shù)制作微透鏡陣列的方法，其特征是把微透鏡陣列中單個(gè)微透鏡按照其浮雕面型的要求設(shè)計(jì)旋轉(zhuǎn)數(shù)字掩模圖形，根據(jù)權(quán)利要求1中所述的排列方式設(shè)計(jì)微透鏡陣列的旋轉(zhuǎn)數(shù)字掩模圖形。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于數(shù)字掩模光刻技術(shù)制作微透鏡陣列的方法，其特征是用計(jì)算機(jī)控制實(shí)現(xiàn)微透鏡陣列中各微透鏡旋轉(zhuǎn)掩模圖形在相應(yīng)的曝光平面上繞各自對(duì)稱軸同時(shí)旋轉(zhuǎn)，通過計(jì)算機(jī)設(shè)置旋轉(zhuǎn)速度和曝光時(shí)間。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于數(shù)字掩模光刻技術(shù)制作微透鏡陣列的方法，其特征是采用計(jì)算機(jī)控制旋轉(zhuǎn)數(shù)字掩模圖形中白色曝光區(qū)域的面積和旋轉(zhuǎn)速度，利用實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)的曝光方式，通過一次性曝光可在光刻膠基板上形成微透鏡陣列浮雕面型，從而得到所設(shè)計(jì)的微透鏡陣列。