[發明專利]一種功率器件背面熱退火時對正面金屬圖形的保護方法無效
| 申請號: | 201110093629.1 | 申請日: | 2011-04-14 |
| 公開(公告)號: | CN102184854A | 公開(公告)日: | 2011-09-14 |
| 發明(設計)人: | 李澤宏;張超;楊文韜;單亞東;肖璇;吳寬 | 申請(專利權)人: | 電子科技大學 |
| 主分類號: | H01L21/331 | 分類號: | H01L21/331;H01L21/324 |
| 代理公司: | 電子科技大學專利中心 51203 | 代理人: | 葛啟函 |
| 地址: | 611731 四川省成*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 功率 器件 背面 退火 正面 金屬 圖形 保護 方法 | ||
1.一種功率器件背面熱退火時對正面金屬圖形的保護方法,在完成功率器件正面制作工藝之后,先在功率器件正面金屬圖形表面涂覆一層有機硅樹脂,有機硅樹脂經預熱固化之后,再進行功率器件背面制作工藝,待背面工藝完成之后將功率器件置于能夠溶解有機硅樹脂的有機溶劑中去除有機硅樹脂。
2.根據權利要求1所述的功率器件背面熱退火時對正面金屬圖形的保護方法,其特征是,所述功率器件背面制作工藝包括背面減薄、背面雜質離子注入、背面雜質離子高溫熱退火和淀積背面金屬步驟。
3.根據權利要求2所述的功率器件背面熱退火時對正面金屬圖形的保護方法,其特征是,所述背面雜質離子高溫熱退火為高溫快速熱退火或者高溫爐退火。
4.根據權利要求3所述的功率器件背面熱退火時對正面金屬圖形的保護方法,其特征是,所述高溫快速熱退火的退火溫度為900~1100℃、退火時間為5~60秒。
5.根據權利要求3所述的功率器件背面熱退火時對正面金屬圖形的保護方法,其特征是,所述高溫爐退火的退火溫度為800~1000℃、退火時間為20~40分鐘。
6.根據權利要求1所述的功率器件背面熱退火時對正面金屬圖形的保護方法,其特征是,所述有機硅樹脂為美國Tempil公司生產的Pyromark2500,所述能夠溶解有機硅樹脂的有機溶劑為甲苯。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





