[發(fā)明專利]一種具有負(fù)離子功能的輕質(zhì)、低吸水率有釉陶瓷磚及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110085288.3
• 申請(qǐng)日: 2011-04-06
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102219559A
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-10-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃惠寧;戴永剛;孟慶娟;李家斌;張國(guó)濤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣東金意陶陶瓷有限公司
• 主分類號(hào): C04B41/86
• 分類號(hào): C04B41/86;C04B35/16;C04B35/622
• 代理公司: 廣州粵高專利商標(biāo)代理有限公司 44102
• 代理人: 陳衛(wèi)

1.一種具有負(fù)離子功能的輕質(zhì)、低吸水率有釉陶瓷磚，其特征在于，原料包括如下組分：

花釉組成：

印粉0.1～90份；色料0.0～190份；印油100～200份；負(fù)離子材料0.01～15份；

所述負(fù)離子材料為電氣石粉、奇冰石粉、蛋白石粉或奇才石粉中至少兩種組成的復(fù)合物；

坯體組成：

陶瓷廢料10~45份；粘土15～20份；長(zhǎng)石10～20份；砂石30～50份；水30～50份；?木質(zhì)素0.0～3.0份；三聚磷酸鈉0.0～1.0份；

所述陶瓷廢料為廢磚、廢粉料和壓榨泥、拋光渣的混合物；

面釉組成：

鉀長(zhǎng)石5.0～15份，鈉長(zhǎng)石8.0～18份，燒滑石10～20份，石灰石13～22份，氧化鋅0.5～5.0份，熔塊3.0～9.0份，氧化鋁8.0～15份，高嶺土5.0～12份，煅燒高嶺土6.0～15份，硅酸鋯5～14份；

所述有釉陶瓷磚由如下制備方法制得：

（1）將花釉原料經(jīng)攪拌，過(guò)325目篩，得到花釉；

（2）將坯體原料按比例混合后，進(jìn)行球磨、過(guò)250目篩、造粒后，壓制成型、干燥，得到生坯；采用噴釉或淋釉的方式把面釉施于生坯表面上，然后通過(guò)輥筒印花或絲網(wǎng)印花的方式將花釉印于面釉之上，在1195～1205℃溫度下燒成50~55min，得到所述有釉陶瓷磚。

2.如權(quán)利要求1所述有釉陶瓷磚，其特征在于，所述陶瓷廢料由如下按重量份數(shù)計(jì)算的組分組成：

廢磚5.0～20份；

廢粉和壓榨泥3.0～15份；

拋光渣2.0～10份。

3.如權(quán)利要求1所述有釉陶瓷磚，其特征在于，步驟（1）中，所述花釉比重為1.45～1.65g/?cm³，流速為18～24s，過(guò)325目篩后篩余為0。

4.如權(quán)利要求1所述有釉陶瓷磚，其特征在于，步驟（1）中，所述攪拌的時(shí)間為10~40分鐘。

5.如權(quán)利要求1所述有釉陶瓷磚，其特征在于，步驟（2）中，所述球磨為濕法球磨，球磨時(shí)間為10～15小時(shí)。

6.如權(quán)利要求1所述有釉陶瓷磚，其特征在于，步驟（2）中，所述坯體原料經(jīng)球磨、過(guò)250目篩后，篩余為2.1~2.9重量％。

7.如權(quán)利要求1所述有釉陶瓷磚，其特征在于，步驟（2）中，所述造粒后得到的粉料含水率為6.2～7.0重量%。

8.如權(quán)利要求1所述有釉陶瓷磚，其特征在于，步驟（2）中，所述壓制成型為在32000~35000kN壓力下壓制成型。

9.如權(quán)利要求1所述有釉陶瓷磚，其特征在于，步驟（2）中，所述干燥的溫度為220～250℃，時(shí)間為50～55分鐘。

10.如權(quán)利要求1所述有釉陶瓷磚，其特征在于，所述有釉陶瓷磚的吸水率≤0.5%，密度為0.5～1.3g/cm³，抗折強(qiáng)度≥10MPa，0℃下導(dǎo)熱系數(shù)＜0.3W/m·K，耐污染能力≥4級(jí)，空間中釋放負(fù)離子數(shù)量超過(guò)500個(gè)/?cm³。