[發(fā)明專利]液晶裝置的制造方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110083527.1 | 申請(qǐng)日: | 2011-04-02 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102213868A | 公開(公告)日: | 2011-10-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 淺利剛裕 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 精工愛普生株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1337 | 分類號(hào): | G02F1/1337;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務(wù)所 11247 | 代理人: | 陳海紅;段承恩 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 液晶 裝置 制造 方法 | ||
1.一種液晶裝置的制造方法,其特征在于,包括:
取向膜形成工序,其中,在排列有多個(gè)基板的第一和第二大型基板的每個(gè)上通過斜向蒸鍍法形成取向膜;
分割工序,其中,將在所述第一大型基板中排列的多個(gè)基板以保持其位置信息的方式分別分割;和
貼合工序,其中,相應(yīng)于所述所保持的位置信息來(lái)將所述已分割的多個(gè)基板中的一個(gè)基板和在所述第二大型基板中排列的基板貼合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶裝置的制造方法,其特征在于:
所述位置信息以蒸鍍?cè)礊榛鶞?zhǔn)來(lái)確定。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶裝置的制造方法,其特征在于:
在所述貼合工序中,相應(yīng)于所述所保持的位置信息,來(lái)將在所述第一大型基板中以所述蒸鍍?cè)礊榛鶞?zhǔn)而在左右任意一側(cè)所配置的所述一個(gè)基板與在所述第二大型基板中以所述蒸鍍?cè)礊榛鶞?zhǔn)而位于左右任意所述一側(cè)的基板貼合。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶裝置的制造方法,其特征在于:
在所述貼合工序中,相應(yīng)于所述所保持的位置信息,來(lái)將在所述第一大型基板中以所述蒸鍍?cè)礊榛鶞?zhǔn)而在左右任意一側(cè)的端部所配置的所述一個(gè)基板與在所述第二大型基板中以所述蒸鍍?cè)礊榛鶞?zhǔn)而位于左右任意所述一側(cè)的端部的基板貼合。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的液晶裝置的制造方法,其特征在于:
在所述貼合工序中,相應(yīng)于所述所保持的位置信息來(lái)使所述一個(gè)基板沿所述一個(gè)基板的基板面旋轉(zhuǎn)。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
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