[發明專利]等離子體處理裝置和等離子體處理方法

有效

• 申請號: 201110069807.7
• 申請日: 2011-03-18
• 公開（公告）號: CN102194639A
• 公開（公告）日: 2011-09-21
• 發明（設計）人: 山澤陽平
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H05H1/46
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種等離子體處理裝置，其特征在于，包括：

至少一部分由電介質的窗構成的能夠進行真空排氣的處理容器；

在所述處理容器內保持被處理基板的基板保持部；

用于對所述基板實施期望的等離子體處理，向所述處理容器內供給期望的處理氣體的處理氣體供給部；

具有并進地延伸的第一線圈段和第二線圈段，用于在所述處理容器內通過感應耦合生成處理氣體的等離子體，設置在所述電介質窗之外的RF天線；

將適于所述處理氣體的高頻放電的頻率的高頻電力向所述RF天線供給的高頻供電部；和

開關電路網，其在所述RF天線內，能夠在下述模式之間切換：并聯連接所述第一線圈段和第二線圈段的并聯模式；以流過所述第一線圈段的電流的方向和流過所述第二線圈段的電流的方向在線圈卷繞方向上相同的方式串聯連接所述第一線圈段和第二線圈段的成倍型串聯模式；和以流過所述第一線圈段的電流的方向和流過所述第二線圈段的電流的方向在線圈卷繞方向上相反的方式串聯連接所述第一線圈段和第二線圈段的抵消型串聯模式。

2.如權利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于：

所述第一線圈段和第二線圈段隔開一定的間隙地平行延伸。

3.如權利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于：

所述開關電路網包括：

第一開關，其能夠將與來自所述高頻供電部的高頻供電線連接或能夠與該高頻供電線連接的第一端子，在與所述第一線圈段的一方的端部連接的位置、和與所述第一線圈段的另一方的端部連接的位置之間切換；

第二開關，其能夠將所述第一線圈段的另一方的端部，在與所述第二線圈段的一方的端部連接的位置、與所述第二線圈段的另一方的端部連接的位置、和與所述第二線圈段的一方的端部和另一方的端部中的任意一個均不連接的位置之間切換；和

第三開關，其能夠將所述第二線圈段的一方的端部，在與所述第一線圈段的一方的端部連接的位置、和與所述第一線圈段的另一方的端部連接的位置之間切換。

4.如權利要求3所述的等離子體處理裝置，其特征在于：

在來自所述高頻供電部的高頻供電線與所述第一端子之間連接有第三線圈段。

5.如權利要求3或4所述的等離子體處理裝置，其特征在于：

在所述第二線圈段的另一方的端部與第二端子之間連接有第四線圈段，該第二端子與保持為接地電位的接地電位部件電連接或能夠與該接地電位部件電連接。

6.如權利要求3或4所述的等離子體處理裝置，其特征在于：

在所述第二線圈段的另一方的端部與第二端子之間連接有電容器，該第二端子與保持為接地電位的接地電位部件電連接或能夠與該接地電位部件電連接。

7.如權利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于：

所述開關電路網包括：

第一開關，其能夠將與保持為接地電位的接地電位部件電連接或能夠與該接地電位部件電連接的第二端子，在與所述第二線圈段的一方的端部連接的位置、和與所述第二線圈段的另一方的端部連接的位置之間切換；

第二開關，其能夠將所述第二線圈段的另一方的端部，在與所述第一線圈段的一方的端部連接的位置、與所述第一線圈段的另一方的端部連接的位置、和與所述第一線圈段的一方的端部和另一方的端部中的任意一個均不連接的位置之間切換；和

第三開關，其能夠將所述第一線圈段的一方的端部，在與所述第二線圈段的一方的端部連接的位置、和與所述第二線圈段的另一方的端部連接的位置之間切換。

8.如權利要求3或7所述的等離子體處理裝置，其特征在于：

在所述第一線圈段的另一方的端部與所述第二線圈段的一方的端部之間，經由所述第二開關和第三開關連接有電容器。

9.如權利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于：

在線圈卷繞方向上，

所述第一線圈段的一方的端部和另一方的端部相互接近，

所述第二線圈段的一方的端部和另一方的端部相互接近。

10.如權利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于：

在與線圈卷繞方向正交的規定的方向上，

所述第一線圈段和第二線圈段的各自的一方的端部相互接近，

所述第一線圈段和第二線圈段的各自的另一方的端部相互接近。