[發明專利]ULSI多層銅布線銅的低下壓力化學機械拋光的組合物

有效

• 申請號: 201110065350.2
• 申請日: 2011-03-17
• 公開（公告）號: CN102181232A
• 公開（公告）日: 2011-09-14
• 發明（設計）人: 路新春;戴媛靜;劉宇宏;潘國順;雒建斌
• 申請（專利權）人: 清華大學
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;H01L21/321
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 廖元秋

1.一種ULSI多層銅布線銅的低下壓力化學機械拋光組合物，含有磨料、氧化劑、pH調節劑、緩蝕劑和水，其特征在于，該組合物還含有適用于低下壓力弱機械作用情況下的含硫腐蝕平衡劑；磨料優選為膠體二氧化硅；氧化劑優選為過氧化氫；pH調節劑優選為無機或有機酸堿，如氫氧化鉀、氨水、甘氨酸、檸檬酸、檸檬酸銨等；緩蝕劑優選為苯并三氮唑(BTA)；腐蝕平衡劑優選為過硫酸銨和木質素磺酸鈉的混合物；水為去離子水或蒸餾水。

2.按照權利要求1所述的ULSI多層銅布線銅的低下壓力化學機械拋光組合物，其特征在于，所述磨料優選為膠體二氧化硅，其含量為1-20wt％，優選含量為3-5wt％；其平均粒度為10-200納米，優選平均粒度為50-80納米。

3.按照權利要求1所述的ULSI多層銅布線銅的低下壓力化學機械拋光組合物，其特征在于，所述氧化劑為無機/有機過氧化合物，即分子中含至少一個過氧基團(-O-O-)的化合物和含有處于高氧化態的元素的化合物中的任何一種或一種以上的混合物；氧化劑優選為過氧化氫，其含量為0.5-10wt％，優選含量為0.9-3wt％。

4.按照權利要求1所述的ULSI多層銅布線銅的低下壓力化學機械拋光組合物，其特征在于，所述pH調節劑優選為無機或有機酸堿，如氫氧化鉀、氨水、甘氨酸、檸檬酸、檸檬酸銨等；拋光漿料的pH值為7-12；優選拋光漿料的pH值為9.5-10。

5.按照權利要求1所述的ULSI多層銅布線銅的低下壓力化學機械拋光組合物，其特征在于，緩蝕劑優選為苯并三氮唑(BTA)，其含量為0.01-1wt％，優選含量為0.01-0.05wt％。

6.按照權利要求1所述的ULSI多層銅布線銅的低下壓力化學機械拋光組合物，其特征在于，所述腐蝕平衡劑優選為過硫酸銨和木質素磺酸鈉的混合物，其含量為0.05-5wt％，優選含量為0.5-2wt％。