[發明專利]測量材料表面形變的簡易貼及其制作方法

無效

• 申請號: 201110062679.3
• 申請日: 2011-03-15
• 公開（公告）號: CN102205671A
• 公開（公告）日: 2011-10-05
• 發明（設計）人: 邱克強;劉正坤;徐向東;劉穎;洪義麟;付紹軍
• 申請（專利權）人: 中國科學技術大學
• 主分類號: B32B3/30
• 分類號: B32B3/30;B32B17/10;B32B15/082;G01B11/16;G01B11/02
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 逯長明

1.一種測量材料表面形變的簡易貼的制作方法，其特征在于，包括：

提供基底；

在所述基底上粘貼表面粗糙的膠帶；

在所述膠帶上形成反射層，所述反射層表面與所述膠帶表面具有高光學對比度；

采用光刻工藝，在所述膠帶上形成網格、點陣或柵線的圖形；

將所述膠帶與所述基底分離，制作完成測量材料表面形變的簡易貼。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述基底為平面玻璃基底。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述膠帶背向所述基底的一面為黑色，所述反射層表面為白色。

4.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述膠帶為PVC膠帶。

5.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述反射層為鉻膜。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述膠帶上形成反射層的方式為，采用物理氣相淀積或化學氣相淀積的方法在所述膠帶上形成反射層。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述反射層的厚度大于或等于50nm。

8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述膠帶上形成網格、點陣或柵線的圖形的過程具體為：

在所述反射層上形成光刻膠層，在所述光刻膠層上形成網格、點陣或柵線的圖形；

以具有網格、點陣或柵線圖形的光刻膠層為掩膜，去除未被光刻膠層覆蓋的反射層材料，以在所述膠帶上形成網格、點陣或柵線的圖形。

9.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，還包括，在具有網格、點陣或柵線的圖形的膠帶上形成保護層，以避免所述網格、點陣或柵線的圖形脫落。

10.采用權利要求1-9任一項所述的方法制作出的測量材料表面形變的簡易貼。