[發明專利]一種超材料成像系統

有效

• 申請號: 201110061803.4
• 申請日: 2011-03-15
• 公開（公告）號: CN102683868A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發明（設計）人: 劉若鵬;石小紅;徐冠雄;張洋洋
• 申請（專利權）人: 深圳光啟高等理工研究院;深圳光啟創新技術有限公司
• 主分類號: H01Q15/00
• 分類號: H01Q15/00;H01Q15/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種超材料成像系統，其特征在于，從發射源到接收天線依次包括第一超材料透鏡、待成像區域以及第二超材料透鏡，所述第一超材料透鏡以及第二超材料透鏡均存在一區段，所述區段的中部各單元的等效介電常數ε與等效磁導率μ之乘積為最高值，其它各單元的等效介電常數ε與等效磁導率μ乘積值從小到大呈漸變趨勢，且，其所述漸變趨勢向所述最高值所在的單元趨近，物體發射的電磁波經所述的第一超材料透鏡匯聚后輸入至所述的待成像區域，所述待成像區域將匯聚過的電磁波再散射入所述的第二超材料透鏡，所述的第二超材料透鏡匯聚所述散射過的電磁波后輸出至所述接收天線成像。

2.根據權利要求1所述的超材料成像系統，其特征在于，所述超材料由片狀基板組成，每個片狀基板上均附著有多個人造微結構，所有的人造微結構在空間中形成周期陣列。

3.根據權利要求1所述的超材料成像系統，其特征在于，所述超材料由多個片狀基板堆疊形成，所述所有的人造微結構在空間中呈均勻性的周期陣列。

4.根據權利要求2或3所述的超材料成像系統，其特征在于，在基材選定的情況下，通過改變人造微結構的圖案、設計尺寸和/或人造微結構在空間中的排布獲得想要的等效介電常數ε與等效磁導率μ。

5.根據權利要求2或3所述的超材料成像系統，其特征在于，所述片狀基板由陶瓷材料、環氧樹脂或聚四氟乙烯制得。

6.根據權利要求4所述的超材料成像系統，其特征在于，所述的每個人造微結構為一具有圖案的附著在片狀基板上的金屬線，所述的圖案為“工”字型或“工”字型的衍生型。

7.根據權利要求6所述的超材料成像系統，其特征在于，所述金屬線通過蝕刻、電鍍、鉆刻、光刻、電子刻或離子刻的方法附著在片狀基板上。

8.根據權利要求6所述的超材料成像系統，其特征在于，所述金屬線為銅線或銀線。