[發明專利]一種低輻射鍍膜玻璃有效
| 申請號： | 201110056422.7 | 申請日： | 2011-03-10 |
| 公開（公告）號： | CN102126833A | 公開（公告）日： | 2011-07-20 |
| 發明（設計）人： | 王樹立 | 申請（專利權）人： | 黃驊榮達玻璃有限公司 |
| 主分類號： | C03C17/36 | 分類號： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 061100*** | 國省代碼： | 河北;13 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 輻射 鍍膜 玻璃 | ||
【權利要求書】：
1.一種低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，由內向外依次包括玻璃(1)、第一介質層(21)、銀層(3)、第一屏蔽層(41)、第二介質層(22)、第二屏蔽層(42)、第三屏蔽層(43)和第三介質層(23)。
2.如權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一介質層(21)、第二介質層(22)和第三介質層(23)均為氧化錫層。
3.如權利要求2所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一屏蔽層(41)和所述第二屏蔽層(42)均為鎳洛合金層，所述第三屏蔽層(43)為不銹鋼層。
4.如權利要求2所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一介質層(21)、第二介質層(22)和第三介質層(23)的厚度為100nm～300nm。
5.如權利要求3所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一屏蔽層(41)和所述第二屏蔽層(42)的厚度為5nm～20nm。
6.如權利要求3所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第三屏蔽層(43)的厚度為3nm～20nm。
7.如權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述銀層(3)的厚度為9nm～20nm。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于黃驊榮達玻璃有限公司，未經黃驊榮達玻璃有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110056422.7/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
