[發(fā)明專利]一種矩形石英晶片缺陷自動檢測分類識別方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110054813.5 | 申請日: | 2011-03-09 |
| 公開(公告)號: | CN102136061A | 公開(公告)日: | 2011-07-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 邱杰;邱麗原;滕今朝;原渭蘭 | 申請(專利權(quán))人: | 中國人民解放軍海軍航空工程學(xué)院 |
| 主分類號: | G06K9/00 | 分類號: | G06K9/00;G06T5/00;G01N21/88 |
| 代理公司: | 北京富天民宏濟(jì)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 11272 | 代理人: | 劉壽椿 |
| 地址: | 264001 *** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 矩形 石英 晶片 缺陷 自動檢測 分類 識別 方法 | ||
1.一種矩形石英晶片缺陷自動檢測分類識別方法,其特征在于:該方法包括下列步驟:步驟10)、在原始圖像中提取矩形石英晶片的長邊并計(jì)算其斜率;步驟20)、進(jìn)行圖像旋轉(zhuǎn),使矩形石英晶片的長邊在圖像中呈水平走向;步驟30)、進(jìn)行圖像分割,從背景中分離出矩形石英晶片目標(biāo);步驟40)、基于矩形石英晶片目標(biāo)及其相關(guān)參數(shù),建立矩形石英晶片模板;步驟50)、外圍斷條缺陷的檢測和識別;步驟60)、外圍邊緣不齊缺陷的檢測和識別;步驟70)、外圍崩邊缺陷的檢測和識別;步驟80)、邊緣處崩邊缺陷的檢測和識別;步驟90)、邊緣處邊緣不齊缺陷的檢測和識別;步驟A0)、邊緣處炸口缺陷的檢測和識別;步驟B0)、邊緣處劃痕缺陷的檢測和識別;步驟C0)、內(nèi)部炸心缺陷的檢測和識別;步驟D0)、內(nèi)部劃痕缺陷的檢測和識別;步驟E0)、內(nèi)部陰影缺陷的檢測和識別。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種矩形石英晶片缺陷自動檢測分類識別方法,其特征在于:所述的步驟10)中包括:步驟110)、使用Prewitt算子對原始圖像進(jìn)行邊緣檢測;步驟120)、計(jì)算邊緣檢測結(jié)果圖像的平均灰度值,根據(jù)該灰度值設(shè)置適當(dāng)?shù)拈T限,對邊緣檢測結(jié)果圖像進(jìn)行二值化處理;步驟130)、使用Thin算子對二值化處理結(jié)果圖像進(jìn)行細(xì)化處理;步驟140)、用細(xì)化處理結(jié)果圖像中的每兩個非零點(diǎn)(非零點(diǎn)對)確定一條直線,計(jì)算并保存每條直線的用最簡整數(shù)分式表示的斜率(以下也簡稱為整數(shù)斜率);步驟150)、對取相同整數(shù)斜率的直線進(jìn)行計(jì)數(shù),得到取各種整數(shù)斜率的直線的數(shù)目,找出其中最大的數(shù)目Nmax;步驟160)、針對確定L{kNmax}中直線的每一個非零點(diǎn)對,計(jì)算該直線的用最簡整數(shù)分式表示的截距(以下也簡稱為整數(shù)截距);步驟170)、對L{kNmax}中取相同整數(shù)截距的直線歸類,每一類代表一條直線,分別記作Li(i=1,2,3,…,m);步驟180)、如果m大于一定的數(shù)值,而且沒有任何一個Numi(D)具有絕對的優(yōu)勢,則基于Li{(DF,DL)},計(jì)算Li上非零點(diǎn)對構(gòu)成的最大直線段長度,記作Length(Li),最大直線段長度對應(yīng)的非零點(diǎn)對記作(DF,DL)i;以各個(DF,DL)i中的非零點(diǎn)重新進(jìn)行兩兩組合,構(gòu)成多個新的非零點(diǎn)對,再計(jì)算整數(shù)斜率,再對取相同整數(shù)斜率的直線進(jìn)行計(jì)數(shù),得到取各種整數(shù)斜率的直線的數(shù)目,找出其中最大的數(shù)目LNmax,LNmax對應(yīng)的直線的整數(shù)斜率記作kLNmax;kLNmax即為矩形石英晶片的長邊的斜率。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種矩形石英晶片缺陷自動檢測分類識別方法,其特征在于:所述的步驟30)中包括:步驟310)、使用Prewitt算子對旋轉(zhuǎn)之后的矩形石英晶片圖像進(jìn)行邊緣檢測;步驟320)、計(jì)算邊緣檢測結(jié)果圖像的平均灰度值,記為Gav;步驟330)、用可變門限系數(shù)(可變門限系數(shù)記作Ef,其初始值可以設(shè)為一個較大的數(shù)值)乘以Gav作為門限,對邊緣檢測結(jié)果圖像進(jìn)行二值化處理,即將灰度值大于門限的點(diǎn)置成白色,灰度值小于門限的點(diǎn)置成黑色;步驟340)、對二值化處理結(jié)果圖像的白色區(qū)域進(jìn)行區(qū)域標(biāo)記,只保留其中最大的白色區(qū)域,而將其他區(qū)域置成黑色;步驟350)、對區(qū)域標(biāo)記結(jié)果圖像進(jìn)行黑白反轉(zhuǎn),對黑白反轉(zhuǎn)結(jié)果圖像的白色區(qū)域進(jìn)行標(biāo)記,保留其中最大的白色區(qū)域,而將其他區(qū)域置成黑色;步驟360)、判斷步驟350)產(chǎn)生的結(jié)果圖像中的黑色區(qū)域是否封閉,如果封閉則進(jìn)行面積計(jì)算,如果不封閉,則直接執(zhí)行步驟380);步驟370)、將黑色區(qū)域的面積與實(shí)際目標(biāo)門限ST進(jìn)行比較,如果不小于ST,則該黑色區(qū)域就是矩形石英晶片目標(biāo);如果小于ST,則將可變門限系數(shù)Ef減0.5,再回到步驟330),繼續(xù)進(jìn)行處理;步驟380)、將可變門限系數(shù)Ef減0.5,再回到步驟330),繼續(xù)進(jìn)行處理。
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