[發明專利]親水性單體、親水性光阻劑組成物及光阻圖形形成方法

無效

• 申請號: 201110053829.4
• 申請日: 2011-03-07
• 公開（公告）號: CN102199282A
• 公開（公告）日: 2011-09-28
• 發明（設計）人: 湯逢錦;謝文仁;陳建廷
• 申請（專利權）人: 華映視訊（吳江）有限公司;中華映管股份有限公司
• 主分類號: C08G65/00
• 分類號: C08G65/00;C07C69/54;C07C219/20;G03F7/00;G03F7/004;G03F7/027
• 代理公司: 上海漢聲知識產權代理有限公司 31236
• 代理人: 胡晶

1.一種式I所示的親水性單體，其特征在于，?????????????

R₁為n個聚氧乙烯基，或-(OC₂H₂NHC₂H₂)_m；

R₂為氫或甲烷基；

n是1到20的自然數；以及

m是1到20的自然數。

2.如權利要求1所述的親水性單體，其特征在于，n是1到15的自然數，m是1到17的自然數。

3.一種親水性光阻劑組成物，其特征在于，包含如權利要求1中所述的親水性單體。

4.如權利要求3所述的親水性光阻劑組成物，其特征在于，更包含一式II所示的親水性樹脂：

其中R₃代表-CO(CH₂)_p，-CO(C₂H₄O)_qCH₂，或-C₂H_2x；p為1到20的自然數，q為1到20的自然數，x為1到5的自然數；R₄代表-C_yH_2yCOOH、-C_zH_2zOH、CH₂=CHCOOCH₂CH₂；y代表為1到20的自然數，Z為1到5的自然數。

5.如權利要求4所述的親水性光阻劑組成物，其特征在于，該親水性樹脂為p是1到15的自然數，q是2到17的自然數，x是1到5的自然數，而y是1到15的自然數，Z是1到6的自然數。

6.如權利要求3所述的親水性光阻劑組成物，其特征在于，更包含感光起始劑，添加物，以及溶劑，其中該添加物是用以控制調整光阻曝光時的光化學特性。

7.如權利要求6所述的親水性光阻劑組成物，其特征在于，該親水性樹脂的重量百分比為15%到25%，該親水性單體的重量百分比為10%到20%。

8.如權利要求7所述的親水性光阻劑組成物，其特征在于，該感光起始劑的重量百分比為0.5%到3%，該添加物的重量百分比為2%到3%，以及該溶劑的重量百分比為55%到75%。

9.如權利要求7所述的親水性光阻劑組成物，其特征在于，該感光起始劑為2-芐基-2-二甲氨基-1-(4-嗎啉苯基)-丁酮-1，該添加物為美卡氟庫R-08，該溶劑為丙二醇甲醚和丙二醇甲醚醋酸酯的混合物。

10.如權利要求9所述的親水性光阻劑組成物，其特征在于，該親水性樹脂的重量百分比為16%，該親水性單體的重量百分比為17%，該感光起始劑的重量百分比為2.2%，該添加物的重量百分比為2%，以及該溶劑的重量百分比為62.8%。

11.一種光阻圖形形成的方法，其特征在于，步驟包含：

涂布如權利要求3到10所述的任一親水性光阻劑組成物于基材的表面，形成一光阻層；

對該光阻層進行第一次加熱烘烤；

使該光阻層進行曝光；

利用純水對該光阻層顯影洗凈；以及

對該光阻層進行第二次加熱烘烤。

12.如權利要求11所述的光阻圖形形成的方法，其特征在于，是以旋轉涂布該親水性光阻劑組成物于基材的表面。

13.如權利要求12所述的光阻圖形形成的方法，其特征在于，是以每分鐘400轉到1000轉的轉速進行該旋轉涂布。

14.如權利要求12所述的光阻圖形形成的方法，其特征在于，第一次加熱烘烤該光阻層的溫度為攝氏90度到120度；第二次加熱烘烤該光阻層的溫度為攝氏230度，并持續30分鐘。

15.如權利要求12所述的光阻圖形形成的方法，其特征在于，該曝光的照射光能量為50毫焦耳到200毫焦耳。

16.如權利要求12所述的光阻圖形形成的方法，其特征在于，還包含在該第一次加熱烘烤前，實施真空干燥步驟。

17.如權利要求16所述的光阻圖形形成的方法，其特征在于，該真空干燥步驟是于壓力為2?托環境下進行。