[發(fā)明專利]光學(xué)測(cè)量裝置和光學(xué)測(cè)量方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110051749.5 | 申請(qǐng)日： | 2011-03-03 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN102192872A | 公開（公告）日： | 2011-09-21 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 鈴木俊平;今西慎吾;橋本學(xué)治;堂脅優(yōu) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 索尼公司 |
| 主分類號(hào)： | G01N15/14 | 分類號(hào)： | G01N15/14;G01N21/64;G01N21/63;G02B27/10 |
| 代理公司： | 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人： | 余剛;吳孟秋 |
| 地址： | 日本*** | 國(guó)省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說(shuō)明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光學(xué) 測(cè)量 裝置 測(cè)量方法 | ||
1.一種光學(xué)測(cè)量裝置，包括：
光施加部，被配置為向在通道中流動(dòng)的樣本施加激發(fā)光；以及
散射光檢測(cè)部，被配置為在所述激發(fā)光的傳播方向上，在所述樣本的下游側(cè)，檢測(cè)從被所述激發(fā)光照射的所述樣本生成的散射光，
所述散射光檢測(cè)部包括：
散射光分離掩模，用于將所述散射光分離成數(shù)值孔徑不大于特定值的低數(shù)值孔徑分量和數(shù)值孔徑大于所述特定值的高數(shù)值孔徑分量；
第一檢測(cè)器，用于檢測(cè)所述低數(shù)值孔徑分量；以及
第二檢測(cè)器，用于檢測(cè)所述高數(shù)值孔徑分量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其中，所述散射光檢測(cè)部進(jìn)一步包括：中繼透鏡系統(tǒng)，用于在所述散射光分離掩模上形成共軛面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其中，所述低數(shù)值孔徑分量的數(shù)值孔徑不大于0.3。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其中，所述高數(shù)值孔徑分量的數(shù)值孔徑不小于0.6。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其中，所述散射光分離掩模透射數(shù)值孔徑不大于0.3的所述低數(shù)值孔徑分量，反射數(shù)值孔徑不小于0.6的所述高數(shù)值孔徑分量，并吸收數(shù)值孔徑大于0.3且小于0.6的其他分量。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其中，所述散射光分離掩模反射數(shù)值孔徑不大于0.3的所述低數(shù)值孔徑分量，透射數(shù)值孔徑不小于0.6的所述高數(shù)值孔徑分量，并吸收數(shù)值孔徑大于0.3且小于0.6的其他分量。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)測(cè)量裝置，進(jìn)一步包括具有微通道的分析薄片，其中，所述光施加部向在所述微通道中流動(dòng)的所述樣本施加所述激發(fā)光。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)測(cè)量裝置，其中，所述散射光檢測(cè)部進(jìn)一步包括用于去除所述激發(fā)光的激發(fā)光屏蔽掩模。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)測(cè)量裝置，進(jìn)一步包括：
熒光檢測(cè)部，被配置為檢測(cè)從被所述激發(fā)光照射的所述樣本生成的熒光；以及
濾光器，設(shè)置在所述樣本和所述熒光檢測(cè)部/所述散射光檢測(cè)部之間，用于將所述熒光和所述散射光彼此分離。
10.一種光學(xué)測(cè)量方法，包括以下步驟：
向作為待測(cè)對(duì)象的樣本施加激發(fā)光；
在所述激發(fā)光的傳播方向上，在所述樣本的下游側(cè)，將從被所述激發(fā)光照射的所述樣本生成的散射光分離成數(shù)值孔徑不大于特定值的低數(shù)值孔徑分量和數(shù)值孔徑大于所述特定值的高數(shù)值孔徑分量；以及
分別檢測(cè)所述低數(shù)值孔徑分量和所述高數(shù)值孔徑分量。
11.一種光學(xué)測(cè)量裝置，包括：
光施加裝置，用于向通道中流動(dòng)的樣本施加激發(fā)光；以及
散射光檢測(cè)裝置，用于在所述激發(fā)光的傳播方向上，在所述樣本的下游側(cè)，檢測(cè)從被所述激發(fā)光照射的所述樣本生成的散射光，
所述散射光檢測(cè)裝置包括：
散射光分離掩模，用于將所述散射光分離成數(shù)值孔徑不大于特定值的低數(shù)值孔徑分量和數(shù)值孔徑大于所述特定值的高數(shù)值孔徑分量；
第一檢測(cè)器，用于檢測(cè)所述低數(shù)值孔徑分量；以及
第二檢測(cè)器，用于檢測(cè)所述高數(shù)值孔徑分量。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于索尼公司，未經(jīng)索尼公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110051749.5/1.html，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇：詢問(wèn)器
- 下一篇：天然高分子復(fù)合多孔纖維支架及其制備方法
- 測(cè)量設(shè)備、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量配件和測(cè)量方法
- 測(cè)量尺的測(cè)量組件及測(cè)量尺
- 測(cè)量輔助裝置、測(cè)量裝置和測(cè)量系統(tǒng)
- 測(cè)量觸頭、測(cè)量組件和測(cè)量裝置
- 測(cè)量觸頭、測(cè)量組件和測(cè)量裝置
- 測(cè)量容器、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量系統(tǒng)、測(cè)量程序以及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量電路、測(cè)量方法及測(cè)量設(shè)備
- 一種對(duì)H型鋼形位變形量的測(cè)量裝置及其測(cè)量方法
- 用于測(cè)量電容的方法
- 車距測(cè)量方法及裝置、車輛相對(duì)速度測(cè)量方法及裝置
- 一種長(zhǎng)波ASF測(cè)量方法
- 輸電桿塔基礎(chǔ)地基破裂面的簡(jiǎn)易測(cè)量方法
- 墨滴體積的校準(zhǔn)方法及其校準(zhǔn)系統(tǒng)、打印設(shè)備
- 車距測(cè)量方法及裝置、車輛相對(duì)速度測(cè)量方法及裝置
- 金屬鍍層厚度的測(cè)量方法
- 聲波測(cè)量裝置及聲波測(cè)量裝置的工作方法
- 一種鋼-混組合結(jié)構(gòu)相對(duì)滑移量測(cè)量裝置及測(cè)量方法
