[發(fā)明專利]波像差校正裝置及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110051545.1 | 申請日: | 2011-03-03 |
| 公開(公告)號: | CN102654733A | 公開(公告)日: | 2012-09-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 段立峰;李映笙;馬明英 | 申請(專利權(quán))人: | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京連和連知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11278 | 代理人: | 王光輝 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 波像差 校正 裝置 方法 | ||
1.一種波像差校正裝置,其特征在于,包括:
波像差測量系統(tǒng),測量投影物鏡的波像差;
信號處理系統(tǒng),對所述投影物鏡的波像差進(jìn)行數(shù)據(jù)處理并輸出驅(qū)動電壓信號;
液體鏡頭,設(shè)置在所述投影物鏡中,接受并根據(jù)所述驅(qū)動電壓信號產(chǎn)生物理形變,用以校正所述投影物鏡的波像差。
2.如權(quán)利要求1所述的波像差校正裝置,其特征在于,所述液體鏡頭、波像差測量系統(tǒng)和所述信號處理系統(tǒng)形成閉環(huán)回路,對所述投影物鏡的波像差進(jìn)行測量與校正。
3.如權(quán)利要求1所述的波像差校正裝置,其特征在于,所述液體鏡頭是液體透鏡陣列。
4.如權(quán)利要求1所述的波像差校正裝置,其特征在于,所述液體鏡頭位于接近所述投影物鏡的孔徑光闌處。
5.如權(quán)利要求3所述的波像差校正裝置,其特征在于,所述液體透鏡陣列是由透明底板、透明蓋板和圓形空腔形成的密閉腔室,所述密閉腔室內(nèi)有不相溶的絕緣性液體和導(dǎo)電液體。
6.如權(quán)利要求5所述的波像差校正裝置,其特征在于,所述透明蓋板在所述密閉腔室一側(cè)有多個網(wǎng)孔,所述網(wǎng)孔為呈網(wǎng)狀的突起。
7.如權(quán)利要求6所述的波像差校正裝置,其特征在于,所述網(wǎng)孔呈旋轉(zhuǎn)對稱結(jié)構(gòu),多個網(wǎng)孔排列是品字狀、行列矩陣狀或者蜂窩狀。
8.如權(quán)利要求6所述的波像差校正裝置,其特征在于,所述絕緣性液體在靠透明蓋板一側(cè),所述導(dǎo)電液體在靠透明底板一側(cè),所述網(wǎng)孔端部浸入導(dǎo)電液體中。
9.如權(quán)利要求6所述的波像差校正裝置,其特征在于,所述網(wǎng)孔兩邊分別覆蓋有透明導(dǎo)電薄膜,所述透明導(dǎo)電薄膜外依次覆蓋有絕緣透明介質(zhì)薄膜和疏水性薄膜。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的波像差校正裝置,其特征在于,所述透明底板在所述密閉腔室一側(cè)依次覆蓋有透明導(dǎo)電薄膜和親水性薄膜,透明底板上的透明導(dǎo)電薄膜與所述網(wǎng)孔對應(yīng)的部分由絕緣介質(zhì)薄膜隔斷,以形成多個單獨(dú)的液體鏡片。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的波像差校正裝置,其特征在于,所述單獨(dú)的液體鏡片通過透明蓋板的導(dǎo)電薄膜和透明底板的導(dǎo)電薄膜形成兩極單獨(dú)通電。
12.一種使用權(quán)利要求1至4之一所述的波像差校正裝置的波像差校正方法,其特征在于,包括:
步驟1,投影物鏡對位于物面的波像差測量圖形進(jìn)行成像;
步驟2,波像差測量系統(tǒng)在像面測量投影物鏡的波像差,計算所述投影物鏡的波像差與要求值的偏差,擬合為波前誤差,判斷所述波前誤差是否滿足要求,如果滿足則結(jié)束校正,如果不滿足,將所述波前誤差發(fā)送到信號處理系統(tǒng);
步驟3,所述信號處理系統(tǒng)將接收到的波前誤差轉(zhuǎn)換為液體鏡頭的形變偏差,根據(jù)所述液體鏡頭的形變偏差輸出驅(qū)動直流電壓;
步驟4,驅(qū)動直流電壓使液體鏡頭發(fā)生物理形變,用以校正所述投影物鏡的波像差。
13.如權(quán)利要求11所述的波像差校正方法,其特征在于,所述液體鏡頭是液體透鏡陣列,所述液體透鏡陣列是由透明底板、透明蓋板和圓形空腔形成的密閉腔室,所述密閉腔室內(nèi)有不相溶的絕緣性液體和導(dǎo)電液體。
14.如權(quán)利要求13所述的波像差校正方法,其特征在于,所述驅(qū)動直流電壓使液體鏡頭發(fā)生形變是使絕緣性液體和導(dǎo)電液體的交界面發(fā)生相應(yīng)形變。
15.如權(quán)利要求13所述的波像差校正裝置,其特征在于,所述透明蓋板在所述密閉腔室一側(cè)有多個網(wǎng)孔,所述網(wǎng)孔為呈網(wǎng)狀的突起。
16.如權(quán)利要求15所述的波像差校正裝置,其特征在于,所述網(wǎng)孔呈旋轉(zhuǎn)對稱結(jié)構(gòu),多個網(wǎng)孔排列是品字狀、行列矩陣狀或者蜂窩狀。
17.如權(quán)利要求15所述的波像差校正裝置,其特征在于,所述絕緣性液體在靠透明蓋板一側(cè),所述導(dǎo)電液體在靠透明底板一側(cè),所述網(wǎng)孔端部浸入導(dǎo)電液體中。
18.如權(quán)利要求15所述的波像差校正裝置,其特征在于,所述網(wǎng)孔兩邊分別覆蓋有透明導(dǎo)電薄膜,所述透明導(dǎo)電薄膜外依次覆蓋有絕緣透明介質(zhì)薄膜和疏水性薄膜。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海微電子裝備有限公司,未經(jīng)上海微電子裝備有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110051545.1/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





