[發明專利]共軛二烯系聚合物、共軛二烯系聚合物組合物及共軛二烯系聚合物的制造方法

無效

• 申請號: 201110047048.4
• 申請日: 2011-02-24
• 公開（公告）號: CN102167778A
• 公開（公告）日: 2011-08-31
• 發明（設計）人: 伊藤真;大島真弓;稻垣勝成
• 申請（專利權）人: 住友化學株式會社
• 主分類號: C08F236/10
• 分類號: C08F236/10;C08F8/42;C08L47/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 蔣亭

1.一種共軛二烯系聚合物，其具有源于共軛二烯的單體單元和源于下述式(1)所示的單體的單體單元，其中，聚合物的至少一端被下述式(2)所示的化合物改性，

在此，r為0或1，R¹表示具有選自氮原子、氧原子及硫原子中的至少一種原子的基團或碳原子數為1～10的烴基，R²表示具有選自氮原子、氧原子及硫原子中的至少一種原子的基團，

在此，n表示1～10的整數，R³、R⁴及R⁵分別表示碳原子數為1～10的烴基或碳原子數為1～10的烴氧基，R³、R⁴及R⁵中的至少一個為烴氧基，R⁶表示具有選自氮原子、氧原子及硫原子中的至少一種原子的基團。

2.根據權利要求1所述的共軛二烯系聚合物，其中，

在具有源于共軛二烯的單體單元的聚合物部分鏈與具有源于共軛二烯的單體單元的其它聚合物部分鏈之間，具有源于式(1)所示的單體的單體單元。

3.根據權利要求1或2所述的共軛二烯系聚合物，其中，

式(1)的R¹及R²分別表示下述式(3)所示的基團、烴基或氫原子，R¹及R²中的至少一個為下述式(3)所示的基團，

在此，R⁷及R⁸分別表示烴基或三烴基甲硅烷基，或者R⁷與R⁸鍵合而表示可以具有氮原子及/或氧原子作為雜原子的亞烴基，^*表示鍵合位置。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的共軛二烯系聚合物，其中，

式(2)中，R⁶為可以具有取代基的氨基。

5.根據權利要求1～4中任一項所述的共軛二烯系聚合物，其中，

將源于共軛二烯的單體單元的含量設為100摩爾％時，共軛二烯系聚合物的乙烯基鍵合量為20摩爾％以上、70摩爾％以下。

6.一種共軛二烯系聚合物組合物，其包含權利要求1～5中任一項所述的共軛二烯系聚合物和增強劑。

7.根據權利要求6所述的共軛二烯系聚合物組合物，其中，

相對于共軛二烯系聚合物100重量份，增強劑的含量為10～150重量份。

8.一種共軛二烯系聚合物的制造方法，其包括下述工序A及工序B，

工序A：在烴溶劑中，利用堿金屬催化劑，使含有共軛二烯和下述式(1)所示的化合物的單體成分聚合，得到在聚合物鏈的至少一端具有來自堿金屬催化劑的堿金屬的聚合物的工序，

工序B：使在工序A中得到的聚合物與下述式(2)所示的化合物發生反應的工序，

在此，r為0或1，R¹表示具有選自氮原子、氧原子及硫原子中的至少一種原子的基團或烴基，R²表示具有選自氮原子、氧原子及硫原子中的至少一種原子的基團，

在此，n表示1～10的整數，R³、R⁴及R⁵分別表示碳原子數為1～10的烴基或碳原子數為1～10的烴氧基，R³、R⁴及R⁵中的至少一個為烴氧基，R⁶表示具有選自氮原子、氧原子及硫原子中的至少一種原子的基團。

9.根據權利要求8所述的共軛二烯系聚合物的制造方法，其中，

式(1)的R¹及R²分別表示下述式(3)所示的基團、烴基或氫原子，R¹及R²中的至少一個為下述式(3)所示的基團，

在此，R⁷及R⁸分別表示烴基或三烴基甲硅烷基，或者R⁷與R⁸鍵合而表示可以具有氮原子及/或氧原子作為雜原子的亞烴基。

10.根據權利要求8或9所述的共軛二烯系聚合物的制造方法，其中，

式(2)中，R⁶為可以具有取代基的氨基。