[發(fā)明專利]烷氧基氫硅烷化合物的制造方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110046404.0 | 申請(qǐng)日: | 2009-07-06 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102140108A | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-08-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 若林克勇;田中秀典 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社鐘化 |
| 主分類號(hào): | C07F7/12 | 分類號(hào): | C07F7/12;C07F7/18 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 劉多益 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 烷氧基氫 硅烷 化合物 制造 方法 | ||
1.以通式(5):
H-SiR2c(CR13-bYb)a(OR12)3-a-c??(5)表示的烷氧基氫硅烷化合物(E)的制造方法,其特征在于,使通過(guò)以通式(1):
H-SiR2c(CR13-bYb)aX3-a-c??(1)
表示的鹵代氫硅烷(A)和醇(F)反應(yīng);
式(1)中,R1分別獨(dú)立地為氫原子或者取代或非取代的碳原子數(shù)1~20的烴基;R2分別獨(dú)立地為取代或非取代的碳原子數(shù)1~20的烴基;X分別獨(dú)立地為鹵素原子;Y為選自鹵素原子、-OR3、-NR4R5、-N=R6、-SR7、碳原子數(shù)1~20的全氟烷基、氰基的基團(tuán),其中的R3、R4、R5、R7分別為氫原子或者碳原子數(shù)1~20的取代或非取代的烴基、R6為碳原子數(shù)1~20的2價(jià)的取代或非取代的烴基;a為1或2,b為1、2或3,c為1或0,a+c不超過(guò)2;
式(5)中,R1、R2、Y、a、b、c同上;R12分別獨(dú)立地為取代或非取代的碳原子數(shù)1~20的烴基。
2.如權(quán)利要求1所述的硅烷化合物的制造方法,其特征在于,使鹵代氫硅烷(A)和醇(F)在除酸劑(G)的存在下反應(yīng)。
3.如權(quán)利要求2所述的硅烷化合物的制造方法,其特征在于,除酸劑(G)是選自原羧酸三烷基酯、亞磷酸三烷基酯的1種以上。
4.如權(quán)利要求3所述的硅烷化合物的制造方法,其特征在于,除酸劑(G)是原甲酸三甲酯。
5.以通式(5):
H-SiR2c(CR13-bYb)a(OR12)3-a-c??(5)
表示的烷氧基氫硅烷化合物(E)的制造方法,其特征在于,使通過(guò)以通式(1):
H-SiR2c(CR13-bYb)aX3-a-c??(1)
表示的鹵代氫硅烷(A)和和原羧酸三烷基酯反應(yīng);
式(1)中,R1分別獨(dú)立地為氫原子或者取代或非取代的碳原子數(shù)1~20的烴基;R2分別獨(dú)立地為取代或非取代的碳原子數(shù)1~20的烴基;X分別獨(dú)立地為鹵素原子;Y為選自鹵素原子、-OR3、-NR4R5、-N=R6、-SR7、碳原子數(shù)1~20的全氟烷基、氰基的基團(tuán),其中的R3、R4、R5、R7分別為氫原子或者碳原子數(shù)1~20的取代或非取代的烴基、R6為碳原子數(shù)1~20的2價(jià)的取代或非取代的烴基;a為1或2,b為1、2或3,c為1或0,a+c不超過(guò)2;
式(5)中,R1、R2、Y、a、b、c同上;R12分別獨(dú)立地為取代或非取代的碳原子數(shù)1~20的烴基。
6.如權(quán)利要求1~5中的任一項(xiàng)所述的硅烷化合物的制造方法,其特征在于,烷氧基氫硅烷(E)是氯甲基二甲氧基硅烷(ClCH2Si(OCH3)2H)。
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