[發(fā)明專利]磁場測量裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110046374.3
• 申請日: 2011-02-25
• 公開（公告）號: CN102135604A
• 公開（公告）日: 2011-07-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李海江
• 申請（專利權(quán)）人: 哈姆林電子(蘇州)有限公司
• 主分類號: G01R33/07
• 分類號: G01R33/07
• 代理公司: 南京蘇科專利代理有限責任公司 32102
• 代理人: 陸明耀;陳忠輝

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種磁場測量裝置，尤其涉及一種微型多磁極磁鐵的磁場測量裝置。

背景技術(shù)

現(xiàn)有技術(shù)中，測量磁鐵表面磁場的工具一般為高斯計，高斯計是一種相對比較精密的測量儀器，尤其是探頭部分的霍爾片，其對磁場敏感度高，能夠測量平面磁場中各個位置的磁場強度，并通過計量表表示出來。對于微型的分布多個磁極的磁場，想要測出其中各區(qū)域的磁場強度，目前常用的是人工手動的方法，用高斯計對準磁鐵上的各區(qū)域點進行測量，由于磁鐵本身就很微小，定位十分困難，因此，不僅測量的準確率低，測量數(shù)據(jù)不可靠，工作效率也降低。

發(fā)明內(nèi)容

鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，本發(fā)明的目的是提出一種可用于測量微型多磁極磁鐵的磁場測量裝置。

本發(fā)明的目的，將通過以下技術(shù)方案得以實現(xiàn)：

一種磁場測量裝置，用于測量微型多磁極磁鐵的磁場，包括高斯計，還包括一底座，所述底座上設(shè)有一轉(zhuǎn)盤支架，所述轉(zhuǎn)盤支架一側(cè)設(shè)有旋轉(zhuǎn)盤，另一側(cè)設(shè)有用于固定微型磁鐵的磁鐵架，所述磁鐵架和旋轉(zhuǎn)盤之間通過軸承連接轉(zhuǎn)動；靠近所述磁鐵架一側(cè)的底座上設(shè)有用于固定所述高斯計的支架；所述微型磁鐵包括至少2個測試點，所述旋轉(zhuǎn)盤的旋轉(zhuǎn)中心與所述各測試點的外接圓的圓心一致，所述高斯計的探頭位于所述外接圓的圓周軌跡上。

進一步的，上述的磁場測量裝置，其中：所述旋轉(zhuǎn)盤與一電動傳動裝置連接。

進一步的，上述的磁場測量裝置，其中：所述旋轉(zhuǎn)盤與一齒輪傳動裝置連接。

本發(fā)明只需通過轉(zhuǎn)動旋轉(zhuǎn)盤，即可使微型多磁極磁鐵的測試點的位置精確地對準高斯計的探頭，操作簡單，使用方便，準確率高，提高了工作效率。

以下便結(jié)合實施例附圖，對本發(fā)明的具體實施方式作進一步的詳述，以使本發(fā)明技術(shù)方案更易于理解、掌握。

附圖說明

圖1是本發(fā)明實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明實施例的俯視圖；

圖3是本發(fā)明實施例的主視圖；

圖4是本發(fā)明實施例的左視圖；

圖5是本發(fā)明實施例的右視圖。

具體實施方式

實施例

本發(fā)明的磁場測量裝置，可用于測量多磁極微型磁鐵的平面磁場強度，其結(jié)構(gòu)如圖1-5所示，包括高斯計1，還包括一底座3，所述底座3上設(shè)有一轉(zhuǎn)盤支架4，所述轉(zhuǎn)盤支架4一側(cè)設(shè)有旋轉(zhuǎn)盤6，另一側(cè)設(shè)有用于固定微型磁鐵7的磁鐵架5，所述磁鐵架5和旋轉(zhuǎn)盤6之間通過軸承連接轉(zhuǎn)動；所述微型磁鐵7可以通過過盈配合、嵌入或者緊固的方式固定在磁鐵架5上。靠近所述磁鐵架5一側(cè)的底座3上設(shè)有用于固定所述高斯計1的支架2；所述微型磁鐵7包括至少2個測試點，所述旋轉(zhuǎn)盤6的旋轉(zhuǎn)中心與所述各測試點的外接圓的圓心一致，所述高斯計1的探頭位于所述外接圓的圓周軌跡上。所述旋轉(zhuǎn)盤6可以手動控制旋轉(zhuǎn)，也可以通過與一電動傳動裝置連接或者一齒輪傳動裝置連接，驅(qū)動旋轉(zhuǎn)。

應(yīng)用本發(fā)明的磁場測量裝置，測量多磁極微型磁鐵的平面磁場強度時，首先將高斯計1的探頭對準其中一個測試點，測量該測試點的磁場強度，測量結(jié)束后，轉(zhuǎn)動旋轉(zhuǎn)盤6，轉(zhuǎn)動的角度為上一個測試點與下一個測試點在上述外接圓上的半徑之間的夾角度數(shù)(小于180度)，轉(zhuǎn)動完畢后，即可開始測量該測試點的磁場強度，以后各測試點的測試方法以此類推，最終可以得出整個多磁極微型磁鐵的磁場分布情況。本發(fā)明操作簡單，使用方便，準確率高，提高了工作效率。

本發(fā)明尚有多種實施方式，凡采用等同變換或者等效變換而形成的所有技術(shù)方案，均落在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。