[發(fā)明專利]光學(xué)板

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110044164.0
• 申請(qǐng)日: 2011-02-22
• 公開（公告）號(hào): CN102062894A
• 公開（公告）日: 2011-05-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李佳真;李信坤;李國(guó)成;黃依萍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘇州向隆塑膠有限公司
• 主分類號(hào): G02B6/00
• 分類號(hào): G02B6/00;G02B5/02;G02B5/04
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 胡美強(qiáng)

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種光學(xué)板，尤其涉及該光學(xué)板的結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)

具有精密光學(xué)效果的光學(xué)板已成為眾所矚目的技術(shù)產(chǎn)品。光學(xué)板可應(yīng)用在各式各樣的光學(xué)相關(guān)領(lǐng)域中。舉例而言，在液晶顯示器的領(lǐng)域中，會(huì)使用到能使光線進(jìn)行擴(kuò)散的擴(kuò)散板、能夠收集光線的棱鏡片、或是提升面光源亮度的增亮片等的光學(xué)板。

一般是在上述光學(xué)板(擴(kuò)散片、棱鏡片或增亮片)的表面上制作各式各樣的光學(xué)微結(jié)構(gòu)，以達(dá)到所需的光學(xué)效果。以往的技術(shù)是利用熱壓印的方式在光學(xué)板的表面上制作光學(xué)微結(jié)構(gòu)。然而，這樣的做法會(huì)有以下缺點(diǎn)：首先，熱壓印需在高溫環(huán)境下進(jìn)行，對(duì)于制程整體而言需進(jìn)行加熱，會(huì)增加制程的復(fù)雜性及危險(xiǎn)性。再者，經(jīng)由熱壓印所形成的光學(xué)微結(jié)構(gòu)，在溫度冷卻后因熱漲冷縮的影響將導(dǎo)致光學(xué)微結(jié)構(gòu)之間的尺寸產(chǎn)生無法預(yù)期的差異。如此一來，光學(xué)微結(jié)構(gòu)的尺寸精密度會(huì)劣化，而導(dǎo)致不良的光學(xué)效果。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明需要解決的技術(shù)問題是提供了一種光學(xué)板，旨在解決上述的問題。

為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：

本發(fā)明的一種光學(xué)板包括：具有一表面，該表面具有一第一方向與一第二方向，該第一方向與該第二方向之間夾一角度，該光學(xué)板包括：一光學(xué)元件陣列；所述的光學(xué)元件陣列設(shè)置在該光學(xué)板的該表面上、且于該第一方向中延伸；以及一刻劃線；所述的刻劃線設(shè)置在該光學(xué)板的該表面上、且于該第二方向中延伸；該表面是選自于該光學(xué)板的上表面、該光學(xué)板的下表面及其組合。

本發(fā)明的另一種光學(xué)板包括：具有一表面，該光學(xué)板包括：多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)；所述的多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)分布在該光學(xué)板的該表面上；以及一刻劃線；所述的刻劃線分布在該光學(xué)板的該表面上；該表面包括：該光學(xué)板的上表面、或該光學(xué)板的下表面。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：具有光學(xué)元件陣列與刻劃線，其中，刻劃線可提供霧化光線的光學(xué)效果；另外，光學(xué)元件陣列可包括多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)，設(shè)置在光學(xué)板的多個(gè)分布區(qū)域之相同或不相同的區(qū)塊；也就是說，根據(jù)所設(shè)置的光學(xué)微結(jié)構(gòu)的種類以及光學(xué)微結(jié)構(gòu)的設(shè)置位置而可以產(chǎn)生所需的光學(xué)效果，如擴(kuò)散光線、收集光線、提升亮度等。

附圖說明

圖1為本發(fā)明實(shí)施例的一種光學(xué)板的立體示意圖、及光學(xué)板表面的光學(xué)元件陣列與刻劃線的示意圖。

圖2為本發(fā)明實(shí)施例的一種光學(xué)板的制作方法的制作流程示意圖。

圖3為本發(fā)明實(shí)施例的一種切割工具的示意圖。

圖4為本發(fā)明實(shí)施例的另一種切割工具的示意圖。

圖5為本發(fā)明實(shí)施例的再一種切割工具的示意圖。

圖6為本發(fā)明一實(shí)施例的切割工具的微結(jié)構(gòu)的示意圖。

圖7為本發(fā)明另一實(shí)施例的切割工具的微結(jié)構(gòu)的示意圖。

圖8為利用本發(fā)明實(shí)施例所述的切割工具對(duì)于光學(xué)板進(jìn)行表面處理的示意圖。

圖9為利用本發(fā)明實(shí)施例所述的切割工具對(duì)于另一光學(xué)板進(jìn)行表面處理的示意圖。

圖10為本發(fā)明實(shí)施例的一種切割工具模塊的示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖與具體實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述：

本發(fā)明提供一種光學(xué)板，具有光學(xué)元件陣列，且還具有能提升光學(xué)板的光學(xué)效果的刻劃線。

本發(fā)明提出一種光學(xué)板，具有一表面，該表面具有第一方向與第二方向，該第一方向與該第二方向之間夾一角度。此光學(xué)板包括：光學(xué)元件陣列以及刻劃線。光學(xué)元件陣列設(shè)置在光學(xué)板的表面上、且于第一方向中延伸。刻劃線設(shè)置在光學(xué)板的表面上、且于第二方向中延伸，其中，表面是選自于光學(xué)板的上表面、光學(xué)板的下表面及其組合。

在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的刻劃線分布在該表面的同一水平/垂直基準(zhǔn)在線、或不同的水平/垂直基準(zhǔn)在線。

在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的角度為90±10度。

在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的光學(xué)元件陣列包括：多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)，突出于光學(xué)板的表面，且光學(xué)微結(jié)構(gòu)的形狀是選自于半圓形、V字形、R溝及其組合。

在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的光學(xué)元件陣列包括：多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)，內(nèi)凹于光學(xué)板的表面，且光學(xué)微結(jié)構(gòu)的形狀是選自于半圓形、V字形、R溝及其組合。

在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的光學(xué)元件陣列包括：多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)，這些光學(xué)微結(jié)構(gòu)彼此之間的尺寸為相同或不相同。

在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的光學(xué)元件陣列包括：多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)，相鄰兩光學(xué)微結(jié)構(gòu)的間距為相同或不相同。

在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的該光學(xué)板包括：擴(kuò)散板、棱鏡片或增亮片。