[發明專利]光記錄介質系列

無效

• 申請號: 201110043793.1
• 申請日: 2011-02-22
• 公開（公告）號: CN102163443A
• 公開（公告）日: 2011-08-24
• 發明（設計）人: 平田秀樹;菊川隆;小須田敦子;井上素宏
• 申請（專利權）人: TDK股份有限公司
• 主分類號: G11B7/24
• 分類號: G11B7/24
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 浦柏明;徐恕

1.一種光記錄介質系列，備有多個光記錄介質，該光記錄介質包括不具有循軌控制用凹凸的平面結構的多層記錄再現層、形成有循軌控制用凹凸的伺服層，能夠在利用上述伺服層來進行循軌控制的同時，在上述記錄再現層上記錄信息，其特征在于，

多個上述光記錄介質中的至少一個上述光記錄介質具有多層上述記錄再現層，

上述記錄再現層的層疊數目在多個上述光記錄介質之間互不相同，

相對于光入射面的上述伺服層的位置，在多個上述光記錄介質之間彼此相等，

至少一層上述記錄再現層相對于上述光入射面的位置，在多個上述光記錄介質之間彼此相等。

2.如權利要求1所述的光記錄介質系列，其特征在于，相對于上述光入射面的位置在多個上述光記錄介質之間彼此相等的上述記錄再現層，至少為2層。

3.如權利要求2所述的光記錄介質系列，其特征在于，在相對于上述光入射面的位置在多個上述光記錄介質之間彼此相等的多個上述記錄再現層之間，不存在相對于上述光入射面的位置在多個上述光記錄介質之間彼此不相等的其他記錄再現層。

4.如權利要求1至3中任一項所述的光記錄介質系列，其特征在于，相對于上述光入射面的位置在多個上述光記錄介質之間彼此相等的上述記錄再現層，包括離上述光入射面最遠的上述記錄再現層。

5.如權利要求1至4中任一項所述的光記錄介質系列，其特征在于，相對于上述光入射面的位置在多個上述光記錄介質之間彼此相等的上述記錄再現層，包括離上述離光入射面最近的上述記錄再現層。

6.如權利要求1至5中任一項所述的光記錄介質系列，其特征在于，就在多個上述光記錄介質中任意選擇的兩個上述光記錄介質而言，上述記錄再現層的數目少的該光記錄介質上的所有上述記錄再現層相對于上述光入射面的各位置，分別與上述記錄再現層的數目多的該光記錄介質上的上述記錄再現層的位置相等。

7.如權利要求1至6中任一項所述的光記錄介質系列，其特征在于，就多個上述光記錄介質中的各光記錄介質上的多個上述記錄再現層的層間距離而言，交替地設定有第一距離和與該第一距離不同的第二距離。

8.如權利要求1至7中任一項所述的光記錄介質系列，其特征在于，上述伺服層上的上述循軌控制用凹凸的軌道間距設定為想要記錄在上述記錄再現層上的記錄標記的軌道間距的2倍。