[發(fā)明專利]光學掃描裝置和圖像形成設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110043066.5
• 申請日: 2011-02-15
• 公開（公告）號: CN102162922A
• 公開（公告）日: 2011-08-24
• 發(fā)明（設計）人: 芹澤敬一;山川健志;渡邊一范;城野寬
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社理光
• 主分類號: G02B26/12
• 分類號: G02B26/12;G03G15/00
• 代理公司: 上海市華誠律師事務所 31210
• 代理人: 呂靜姝;楊暄

1.一種光學掃描裝置，其特征在于，包括：

光源；

多邊形掃描器，所述多邊形掃描器對從所述光源輸出的光束進行偏轉(zhuǎn)；和

各種類型的光學元件，用于使被所述多邊形掃描器偏轉(zhuǎn)的所述光束集中到被掃描面上的期望位置上，其中，

孔或薄壁部分，被設置在布置有所述多邊形掃描器以及在副掃描方向上具有光焦度的光學元件的光學外殼的布置面上，其中，

所述孔或薄壁部分

沿主掃描方向延伸，以及

被設置在所述多邊形掃描器以及在所述副掃描方向上具有光焦度的所述光學元件之間并靠近在所述副掃描方向上具有光焦度的所述光學元件。

2.如權(quán)利要求1所述的光學掃描裝置，其特征在于，進一步包括：

加固肋

從所述光學外殼的所述布置面突出，以及

靠近在所述副掃描方向上具有光焦度的所述光學元件的上游側(cè)設置，其中，

所述孔或所述薄壁部分沿所述加固肋設置，靠近所述加固肋的所述上游側(cè)。

3.如權(quán)利要求1所述的光學掃描裝置，其特征在于，

所述孔或所述薄壁部分在所述主掃描方向上的大小比支持部分在所述主掃描方向上的兩端之間的距離大，所述支持部分被設置在所述光學外殼的所述布置面上以便支持在所述副掃描方向上具有光焦度的所述光學元件。

4.如權(quán)利要求2所述的光學掃描裝置，其特征在于，

所述孔或所述薄壁部分在所述主掃描方向上的大小比支持部分在所述主掃描方向上的兩端之間的距離大，所述支持部分被設置在所述光學外殼的所述布置面上以便支持在所述副掃描方向上具有光焦度的所述光學元件。

5.如權(quán)利要求1所述的光學掃描裝置，其特征在于，

所述多邊形掃描器被設置為共用的單個偏轉(zhuǎn)器，以及

所述各種類型的光學元件以實質(zhì)上對稱的方式被設置在所述多邊形掃描器的兩側(cè)上，以掃描多個被掃描面。

6.如權(quán)利要求5所述的光學掃描裝置，其特征在于，

設置具有兩層旋轉(zhuǎn)多面鏡的所述多邊形掃描器以便掃描四個被掃描面。

7.如權(quán)利要求6所述的光學掃描裝置，其特征在于，

設置在所述多邊形掃描器的兩側(cè)上的所述孔或所述薄壁部分實質(zhì)上圍繞所述多邊形掃描器點對稱地布置。

8.如權(quán)利要求7所述的光學掃描裝置，其特征在于，

每個所述孔或所述薄壁部分在所述主掃描方向上的大小小于在所述副掃描方向上具有光焦度的每個光學元件在所述主掃描方向上的大小的一半。

9.如權(quán)利要求1到7中任一項所述的光學掃描裝置，其特征在于，進一步包括：

第一光學外殼，在所述第一光學外殼上，至少安裝所述多邊形掃描器以及在所述副掃描方向上具有光焦度的所述光學元件；和

第二光學外殼，在所述第二光學外殼上安裝所述第一光學外殼和其他光學元件。

10.如權(quán)利要求1到8中任一項所述的光學掃描裝置，其特征在于，

用于所述光學掃描裝置的所述多邊形掃描器的容納部分被配置為密封結(jié)構(gòu)。

11.一種圖像形成設備，其特征在于，所述圖像形成設備包括如權(quán)利要求1到10中任一項所述的光學掃描裝置。