[發(fā)明專利]顯影裝置以及圖像形成裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110042840.0 | 申請日: | 2011-02-21 |
| 公開(公告)號: | CN102193402A | 公開(公告)日: | 2011-09-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 足立克己 | 申請(專利權(quán))人: | 夏普株式會社 |
| 主分類號: | G03G15/08 | 分類號: | G03G15/08;G03G15/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 李偉;張浩 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯影 裝置 以及 圖像 形成 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及利用調(diào)色劑使形成在像承載體上的靜電潛像進行顯影的顯影裝置、以及具有該顯影裝置的圖像形成裝置。
背景技術(shù)
在電子照相方式的圖像形成裝置中,通過從顯影裝置對形成在像承載體的表面的靜電潛像供給作為顯影劑的成分的調(diào)色劑進行顯影,而形成作為可視圖像的調(diào)色劑像,進而將調(diào)色劑像轉(zhuǎn)印到作為轉(zhuǎn)印介質(zhì)的記錄紙等上,并對被轉(zhuǎn)印到記錄紙上的調(diào)色劑像進行定影,由此形成牢固的記錄圖像。
近年來,隨著彩色噴墨方式的圖像形成裝置的普及,對于電子照相方式的圖像形成裝置,也要求小型化、低價格化。
根據(jù)這種狀況,作為電子照相方式的圖像形成裝置所具備的顯影裝置,結(jié)構(gòu)簡單且可小型化的非磁性單組分顯影方式很有用,目前也正在開發(fā)其改進技術(shù)。作為非磁性單組分顯影方式的顯影裝置,有以下兩種方式,即:使作為顯影劑承載體的顯影輥與像承載體接觸來進行顯影的接觸顯影方式;從與像承載體隔開規(guī)定的間隔配置的顯影輥向像承載體供給顯影劑來進行顯影的非接觸顯影方式。兩種方式顯影裝置自身的構(gòu)造都類似,具有緊湊的特征,但有時顯影輥的材質(zhì)不同。
在接觸顯影方式的顯影裝置中,為了得到顯影區(qū)域內(nèi)的均勻接觸,由具有導電性的橡膠等彈性部件構(gòu)成顯影輥。尤其作為像承載體使用感光鼓等剛體時,用彈性部件構(gòu)成顯影輥是從防止因接觸狀態(tài)的不良導致的損傷的觀點來看也有效。另外,在由橡膠材料構(gòu)成的顯影輥的情況下,作為用于在顯影輥表面形成顯影劑層的層厚限制部件,采用橡膠制刮板、由金屬軸構(gòu)成的輥型刮板、金屬板單體的刮板等。其中,由金屬板單體構(gòu)成的刮板能夠以低成本提供,所以廣泛應用。
在非接觸顯影方式的顯影裝置中,顯影輥需要精密地保持與像承載體之間的間隙,所以多采用由金屬等剛體構(gòu)成的輥、管。這是由于與橡膠輥相比,在表面的研磨精度提高、與驅(qū)動軸表面的偏心的抑制方面很效果。另外,還舉出由于是非接觸所以無需擔心因接觸導致對像承載體產(chǎn)生損傷。作為用于在顯影輥表面形成顯影劑層的層厚限制部件,也可以與上述接觸顯影方式的顯影裝置的情況同樣地構(gòu)成,但從與顯影輥表面接觸來限制顯影劑層的層厚的層厚限制部中的接觸穩(wěn)定化、防止對顯影輥產(chǎn)生損傷的觀點來看,多采用橡膠制的刮板。作為橡膠制刮板,列舉有將層厚限制部和支承層厚限制部的支承部全部由橡膠材料單體構(gòu)成的結(jié)構(gòu)和將層厚限制部由橡膠材料構(gòu)成且支承部由具有彈性的金屬板構(gòu)成的結(jié)構(gòu)。
作為層厚限制部件的層厚限制部中的對顯影輥表面的抵接方式,列舉有使層厚限制部的周緣部與顯影輥表面抵接的邊緣抵接方式和使層厚限制部的底面的中央部與顯影輥表面抵接的面抵接方式。
在邊緣抵接方式中,層厚限制部以對顯影輥的抵接壓力的分布為尖的分布的方式與顯影輥表面線接觸,所以能夠?qū)⑿纬稍陲@影輥表面的顯影劑層薄層化(參照日本特開2001-13781號公報)。但是,在邊緣抵接方式中,對于與顯影輥表面抵接的層厚限制部的周緣部的形狀以及抵接位置的精度敏感,所以無法在顯影輥表面形成均勻的顯影劑的薄層。
在面抵接方式中,與顯影輥表面抵接的層厚限制部的接觸面的表面精度以及抵接位置的精度的影響比較平緩,能夠在顯影輥表面形成均勻的顯影劑層。但是,在面抵接方式中,層厚限制部的與顯影輥表面接觸的接觸區(qū)域中對顯影輥的抵接壓力,在與顯影輥的軸線平行的中心線附近高,隨著從中心線朝向外方而降低,成為寬的壓力分布。這樣,對顯影輥的抵接壓力的分布為寬的分布是由于因厚度均勻的板狀的層厚限制部與圓筒狀的顯影輥抵接而產(chǎn)生的層厚限制部的彈性變形量的不同引起的。
近年來,對高品質(zhì)的圖像形成的要求提高,作為顯影劑的調(diào)色劑的小粒徑化正在推進,伴隨此形成在顯影輥表面的顯影劑層的厚度也需要薄層化。在面抵接方式中,由于對顯影輥的抵接壓力的分布為寬的分布,所以難以將形成在顯影輥表面的顯影劑層的厚度薄層化。例如,通過使層厚限制部的與顯影輥的抵接壓力上升,而能夠?qū)⑿纬稍陲@影輥表面的顯影劑層的厚度薄層化,但此時,層厚限制部的與顯影輥表面接觸的接觸區(qū)域變寬,進而在整個區(qū)域變?yōu)閴毫Ω叩臓顟B(tài)。因此,對形成在顯影輥表面的顯影劑層施加的壓力變得過度,構(gòu)成顯影劑層的顯影劑劣化,而存在導致發(fā)生圖像缺陷的問題。另外,若在顯影輥表面的全部區(qū)域變?yōu)閴毫Ω叩臓顟B(tài),則容易產(chǎn)生支承顯影輥的顯影裝置的框體的變形等,根據(jù)用于避免的強度提高對策等,有可能提高成本。
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