[發(fā)明專利]垂直多接面太陽能電池的制作方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110041981.0 | 申請日: | 2011-02-18 |
| 公開(公告)號: | CN102646749A | 公開(公告)日: | 2012-08-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 沙特貝那德L | 申請(專利權(quán))人: | 美環(huán)光能股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 逯長明 |
| 地址: | 中國臺(tái)*** | 國省代碼: | 中國臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 垂直 多接面 太陽能電池 制作方法 | ||
1.一種垂直多接面太陽能電池的制作方法,其特征在于,包含:
(a)披覆一電介質(zhì)涂層于一光伏打組件上使其表面圖案化,以產(chǎn)生該光伏打組件中的受局限擴(kuò)散摻雜區(qū),其中該光伏打組件包括一P型擴(kuò)散摻雜區(qū)或一N型擴(kuò)散摻雜區(qū)中的至少一個(gè);
(b)金屬化該光伏打組件,其沉積一歐姆觸點(diǎn)至該光伏打組件的經(jīng)圖案化表面中的一者或多者上;
(c)堆棧一組經(jīng)圖案化、金屬化的該光伏打組件以形成一太陽能電池;以及
(d)于一處理過程使該太陽能電池的部署為PV效能。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法,其特征在于,該處理過程包含熱處理程序、切割程序、拋光程序、清潔程序、整合程序。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制作方法,其特征在于,該熱處理程序的熱處理溫度介于400℃至800℃之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法,其特征在于,該歐姆觸點(diǎn)的材料的熱膨脹系數(shù)與該光伏打組件的半導(dǎo)體材料的熱膨脹系數(shù)差異小于5%。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法,其特征在于,該歐姆觸點(diǎn)的材料選自硅、鈦金屬、鈷金屬、鎢金屬、鉑金屬、鉿金屬、鉭金屬、鉬金屬、鉻金屬、鈀金屬、金金屬、銀金屬、銅金屬、鋁金屬及其合金之一。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法,其特征在于,該歐姆觸點(diǎn)的材料結(jié)構(gòu)為共晶結(jié)構(gòu)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法,其特征在于,該歐姆觸點(diǎn)的材料為一鋁硅合金。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制作方法,其特征在于,該鋁硅合金的鋁含量介于該鋁硅合金的60%至90%之間。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法,其特征在于,該歐姆觸點(diǎn)的材料厚度介于100奈米至5000奈米之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制作方法,其特征在于,該切割程序使該太陽能電池的結(jié)晶平面曝露或大致曝露給日光以建立鈍化的最低表面狀態(tài)。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





