[發明專利]狹縫噴嘴清掃裝置以及涂覆裝置有效
| 申請號: | 201110041215.4 | 申請日: | 2011-02-17 |
| 公開(公告)號: | CN102161027A | 公開(公告)日: | 2011-08-24 |
| 發明(設計)人: | 元田公男;宮崎文宏;太田義治;川內拓男 | 申請(專利權)人: | 東京毅力科創株式會社 |
| 主分類號: | B05B15/02 | 分類號: | B05B15/02;B05C5/02 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;張會華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 狹縫 噴嘴 清掃 裝置 以及 | ||
技術領域
本發明涉及非旋涂方式的涂覆裝置,尤其是涉及在非旋涂法的涂覆處理中所采用的、用于對狹縫噴嘴的狹縫內部進行清掃的狹縫噴嘴清掃裝置。
背景技術
在LCD等平板顯示器(FPD)的制造工藝中的光刻工序中,如下的一種非旋涂涂覆法被廣泛采用:使具有狹縫形狀的噴出口的長條形的狹縫噴嘴相對于玻璃基板等被處理基板相對移動,并在基板上涂覆處理液或者藥液等涂覆液、例如抗蝕液。
在典型的非旋涂涂覆法中,一邊自狹縫噴嘴相對于固定并載置在工作臺上的基板呈帶狀噴出抗蝕液,一邊使狹縫噴嘴沿與噴嘴長度方向正交的水平一方向移動。這樣,使自狹縫噴嘴的噴出口溢出到基板上的抗蝕液向噴嘴后方平坦地延伸,從而在基板的一表面上形成抗蝕液涂覆膜(例如專利文獻1)。
作為另一代表性的非旋涂涂覆法,多采用在工作臺上以保持使基板飄浮于空中的狀態而沿水平一方向(工作臺長度方向)輸送基板的上浮輸送方式。在該方式中,通過使設置在上浮工作臺的上方的長條型的狹縫噴嘴朝向通過其正下方的基板呈帶狀噴出抗蝕液,而在基板輸送方向上自基板的前端部朝基板的后端部,在基板的一表面上形成抗蝕液涂覆膜(例如專利文獻2)。
專利文獻1:日本特開平10-156255號公報
專利文獻2:日本特開2005-236092號公報
在上述那樣的、在非旋涂涂覆法的涂覆處理中所采用的狹縫噴嘴中,由于供抗蝕液噴出的狹縫的間隙非常窄(通常為100μm以下),因此,在狹縫內容易堆積由抗蝕液于抗蝕液供給管或者狹縫噴嘴內凝膠化而形成的固化物,若在狹縫內的某處堆積有抗蝕液固化物,則在該處,抗蝕液的流出(即向基板的供給)會存在欠缺,導致在抗蝕液涂覆膜上產生沿涂覆掃描方向筆直延伸的條狀的涂覆不均。
以往,為了防止抗蝕液固化物堆積在狹縫噴嘴的狹縫內,而人工進行將附著在狹縫噴嘴的狹縫內壁上的抗蝕液固化物去除的清掃作業。更加詳細而言,將由金屬或者樹脂構成的薄板材自外部(噴嘴噴出口側)插入狹縫噴嘴的狹縫內,且在狹縫內使薄板材沿噴嘴長度方向滑動從而將固化物刮出。但是,該種狹縫噴嘴的狹縫間隙如上述那樣,通常為100μm以下的極細的間隙,要將薄板材插入該間隙中進行清掃是非常麻煩且費事的作業,因而成為使抗蝕液涂覆裝置的維護性或者運轉率下降的主要原因。此外,由于清掃作業效率不高、耗時長,因此還導致在作業中散亂在周圍的顆粒較多。
發明內容
本發明是為了解決上述那樣的以往技術的問題點而做成的,目的在于提供如下一種狹縫噴嘴清掃裝置和非旋涂方式的涂覆裝置:在抑制顆粒的產生的同時,自動且有效率地對用于非旋涂涂覆法的涂覆處理中的狹縫噴嘴的狹縫內部進行清掃,且通過改善對狹縫噴嘴的維護功能來力圖提高涂覆膜的品質、成品率以及運轉率。
為了達成上述目的,本發明的第1技術方案的狹縫噴嘴清掃裝置是用于對在涂覆處理中所采用的長條型狹縫噴嘴的狹縫內部進行清掃的狹縫噴嘴清掃裝置,其中,包括:薄板狀的刮出構件,其能夠自外部向上述狹縫噴嘴的狹縫內插入或自上述狹縫噴嘴的狹縫內拔出;清掃機構,其用于保持上述刮出構件,以將上述刮出構件插入到上述狹縫噴嘴的狹縫內而在上述狹縫內刮出固化物的方式,使上述刮出構件沿規定的方向移動,并自上述狹縫將上述刮出構件拔出
在上述結構的狹縫噴嘴清掃裝置中,通過使與狹縫噴嘴的狹縫內清掃或者清洗相關的主要作業、即刮出構件相對于狹縫噴嘴的插拔作業和刮出作業全部自動化、定型化,能夠實現提高作業效率、抑制顆粒的產生、大幅度縮短所需時間。
本發明的第2技術方案的狹縫噴嘴清掃裝置是用于對在涂覆處理中所采用的長條型狹縫噴嘴的狹縫內部進行清掃的狹縫噴嘴清掃裝置,其中,包括:薄板狀的刮出構件,其能夠自外部向上述狹縫噴嘴的狹縫內插入或自上述狹縫噴嘴的狹縫內拔出;清掃機構,其用于保持上述刮出構件,在上述狹縫內使上述刮出構件沿規定的方向移動以便將固化物刮出。
在上述結構的狹縫噴嘴清掃裝置中,通過將作為與狹縫噴嘴的狹縫內清掃或清洗相關的主要作業之一的、狹縫噴嘴內的刮出作業自動化、定型化,能夠實現提高作業效率、抑制顆粒的產生、縮短所需時間。
本發明的涂覆裝置包括:狹縫噴嘴,其用于在涂覆處理中相對于被處理基板呈帶狀將涂覆液噴出;涂覆液供給部,其用于在涂覆處理中將涂覆液供給到上述狹縫噴嘴;基板支承部,其用于支承上述被處理基板;掃描機構,其在涂覆處理中在上述狹縫噴嘴與上述基板之間沿一水平的方向相對移動,以使上述狹縫噴嘴在上述基板上進行涂覆掃描;狹縫噴嘴清掃裝置,其用于在涂覆處理的間隔期間對上述狹縫噴嘴的狹縫內進行清掃。
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